這是華為的福音了，隨便利哪種庁法，中國對光刻機已經(jīng)有了新的實破大肆進展，已經(jīng)撐握了光刻機的核心技能，現(xiàn)在可能正忙著籌建生產(chǎn)光刻機的設(shè)備，預(yù)計一年之內(nèi)就可以量產(chǎn)光刻機了，再也不會受別人掐脖子了。

華為和國內(nèi)頂尖企業(yè)合作研制光刻機，我預(yù)測一到兩年就可研制成功7nm光刻機。上海微電子早已量產(chǎn)90nm光刻機，現(xiàn)在已研制成功28nm光刻機，并進軍14nm光刻機。中科院已設(shè)計成功5nm光刻機，量產(chǎn)需要一兩年。所以華為投資加速光刻機研制是有希望的。

感謝邀請，恰好這幾天在研究芯片方面。

首先給你個答案:可以。

但是，有了光刻機不代表就可以隨意制造先進的芯片了，這是兩碼事，切忌!

華為在通信領(lǐng)域具有全球領(lǐng)先的地位，旗下海思也有著多年成熟的頂尖芯片設(shè)計方案能力，但是，在芯片制造上，國內(nèi)企業(yè)還處于全面下風(fēng)的境地。

而芯片的上下游產(chǎn)業(yè)鏈當(dāng)中，光刻機僅僅是其中一個重要環(huán)節(jié)，即便你可以造出光刻機，以我國目前的精密制造能力，能夠制造的也僅僅是精度較低的產(chǎn)品，暫時無法與荷蘭阿斯麥的世界最先進的光刻機相抗衡的。

我們知道阿斯麥的光刻機零件，90%都是其他供應(yīng)商提供，但是這個產(chǎn)業(yè)鏈完全在西方國家手中，而光刻機的核心技術(shù)極紫外線激光、浸潤式光刻技術(shù)的核心依然被阿斯麥和臺積電牢牢把控，光刻機中的精密鏡頭組件也被德日牢牢把控，可以說，在光刻機的核心技術(shù)上，我國幾乎拿不到核心技術(shù)，而且這些技術(shù)西方國家已經(jīng)持續(xù)不斷研發(fā)迭代幾十年，可不是華為和國內(nèi)企業(yè)短時間可以迅速趕上。

更別提芯片制造龐大產(chǎn)業(yè)鏈當(dāng)中，可不僅僅是是光刻機，還有許多重要環(huán)節(jié)，各種耗材、制造設(shè)備、檢測設(shè)備，都掌握在美日幾家巨頭手中，如:美國應(yīng)用材料、泛林集團、日本的東京電子等等。

目前我國最先進的芯片制造代工企業(yè)是中芯國際，已經(jīng)可以制造14nm工藝芯片，但是仍然差距很大，光刻機還是荷蘭阿斯麥提供。

而目前臺積電三星等企業(yè)已經(jīng)向5nm過渡，領(lǐng)先中芯國際幾個世代。

有消息稱，華為要進軍芯片制造，因為美國打壓之下，華為幾乎拿不到最先進的制程來制造海思1020芯片，但是芯片制造是個系統(tǒng)工程，不可能一蹴而就，也絕對不是靠砸錢就能快速研發(fā)出來的。

大家都意識到芯片制造的重要性，這是好事，但是請科學(xué)對待，不要打腫臉充胖子，科學(xué)嚴(yán)謹(jǐn)、一步一個腳印進行才好。

時間不好說。

希望能快些。

我相信中國科技有實力造出極紫外光刻機。

中國的極紫外光刻技術(shù)已經(jīng)有了突破。

技術(shù)突破到量產(chǎn)還需要時間。

我們要穩(wěn)中求進。

在保證質(zhì)量的前提下加快速度。

光刻機是華為的技術(shù)支持起來的，如果給國內(nèi)的做，華為的技術(shù)扶持。三個月差不多

最少的5年以上。