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前段時(shí)間，中芯國際向荷蘭ASML訂購了一臺(tái)EUV極紫外光刻機(jī)，這是中芯用于7nm工藝的光刻機(jī)。但是，ASML的突然意外失火，讓中芯錯(cuò)失這臺(tái)機(jī)器。實(shí)際上，就算不失火，我估計(jì)中芯也拿不到這臺(tái)機(jī)器！“技術(shù)的壟斷”不會(huì)讓我們掌握這項(xiàng)關(guān)鍵性技術(shù)。我們即使無奈，卻只能“忍氣吞聲！”

我們先解決一個(gè)問題：為什么荷蘭ASML公司可以壟斷80%的光刻機(jī)市場(chǎng)份額？原因很簡(jiǎn)單，技術(shù)先進(jìn)。而我們?yōu)槭裁粗圃觳怀龉饪虣C(jī)？同樣原因很簡(jiǎn)單：技術(shù)落后！

我們首先要知道，光刻機(jī)是什么？

光刻機(jī)，通過將各路電路的圖案經(jīng)過激光，縮微投影爆光到光刻膠上�？此坪�(jiǎn)單的解釋，其實(shí)非常復(fù)雜。所以，如今做的最好的就是荷蘭的ASML的光刻機(jī)。而，尼康，佳能，中國的上海微電子裝備和它相比還遠(yuǎn)遠(yuǎn)不如。

那么，為什么臺(tái)積電，三星可以擁有ASML最先進(jìn)的光刻機(jī)呢？主要是因?yàn)榕_(tái)積電，三星在ASML中都有股份。所以，它們可以第一時(shí)間使用到ASML公司的光刻機(jī)。

目前，我國為了擺脫這種困境，專門成立了，上海微電子裝備有限公司（SMEE）。終于在2007年研究出了90nm高端投影光刻機(jī)；而在2016年內(nèi)部驗(yàn)收了28nm光刻機(jī)。雖然說和荷蘭ASML的7nm光刻機(jī)相去勝遠(yuǎn)，但是這已經(jīng)是進(jìn)步。

其實(shí)，上海微電子的在光刻機(jī)領(lǐng)域的進(jìn)步雖然有目共睹，但是和荷蘭之間的差異還是非常大的。這里主要是因?yàn)橐恍╆P(guān)鍵零部件，還是來歐美發(fā)達(dá)國家，比如瑞典的軸承，德國的鏡頭，美國的光柵，法國的閥件等等。而這些國家對(duì)于中國零部件都是禁運(yùn)的。

所以，在這些關(guān)鍵的零部件中對(duì)中國進(jìn)行禁售，也是反映了歐美國家害怕，一旦中國掌握了光刻機(jī)技術(shù)，會(huì)對(duì)歐美國家產(chǎn)生多大的影響，特別是在芯片領(lǐng)域的自主。

而光刻機(jī)中的一些關(guān)鍵技術(shù)，需要我們特別注重基礎(chǔ)科學(xué)研究，加大投入。只有在慢慢的投入過程中獲得提升，才能夠擺脫西方國家的壟斷。

中國有自己的光刻機(jī)技術(shù)，但是距離世界頂尖水平差距還是非常明顯。做光刻機(jī)最厲害的企業(yè)屬于荷蘭的ASML公司，幾乎全球頂端的光刻機(jī)都是他們一家來供給的，而且最高端的還不賣給中國，單單一臺(tái)的價(jià)格就價(jià)值1億美金，在全球范圍內(nèi)有錢都買不到的地位，這也是國內(nèi)光刻機(jī)努力的對(duì)象，中國也擁有自己的光刻機(jī)技術(shù)但是距離頂端差距還是非常明顯。

說到光刻機(jī)早期中國只是在90nm上有突破，近些年中國利用紫光光源成功突破了22nm的技術(shù)壁壘，發(fā)現(xiàn)中國已經(jīng)在這方面有了突破于是荷蘭的ASML也開始答應(yīng)給中國提供設(shè)備，即使同意供給肯定不是最先進(jìn)的，同時(shí)也是為了抑制中國光刻機(jī)的發(fā)展。中國很多核心技術(shù)就是在這種狀態(tài)下誕生的發(fā)現(xiàn)中國有了突破，馬上一個(gè)大轉(zhuǎn)彎扭轉(zhuǎn)態(tài)度，要想贏得別人的尊重還是需要依靠自身的技術(shù)實(shí)力，歐美國家在很多技術(shù)都對(duì)中國封鎖，只要是中國在技術(shù)上有了突破馬上就會(huì)降價(jià)銷售，也在一定程度上抑制中國產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

說到光刻機(jī)的最頂尖還是荷蘭的ASML公司，一個(gè)光刻機(jī)只是零件就需要3萬多個(gè)，而且想要購買ASML的設(shè)備，必須先要入股這家企業(yè)，這是非常獨(dú)特的一種營銷方式，像三星臺(tái)積電都是ASML的主要客戶，臺(tái)積電是全球最大的芯片光刻機(jī)代工廠，不要小瞧簡(jiǎn)單的代工，不像普通的代工技術(shù)那么簡(jiǎn)單需要有極高的門檻，中國的光刻機(jī)技術(shù)主要應(yīng)用在低端芯片上，時(shí)間久了也能慢慢積累出一定的經(jīng)驗(yàn)，中國的光刻機(jī)技術(shù)早晚能夠突破，但需要很長的一段時(shí)間。

光刻機(jī)需要精密的測(cè)量儀器，在這方面國內(nèi)的理論基礎(chǔ)還比較薄弱，這些需要長時(shí)間產(chǎn)業(yè)的積累，幾萬個(gè)零件需要用全球的元器件，核心器件掌握在德國美國日本等國家的手上，即使理論上突破在實(shí)踐過程中也未必能夠有對(duì)應(yīng)的元器件去測(cè)試。如果中國擁有了真正的高端的光刻機(jī)，歐美等國家也只能拿出最新的光刻機(jī)出售給我們，并且在價(jià)位上要比之前低很多，中國改革開放以來在基礎(chǔ)工業(yè)上有了很大的進(jìn)步，但是很多稀缺行業(yè)還是處于非常落后的位置，特別是像光刻機(jī)這種高精密的儀器。

現(xiàn)在階段要做的是如何攻克尖端的光刻機(jī)，荷蘭的ASML主要用到德國的高精密制造和測(cè)試技術(shù)，在國外90%高精密儀器對(duì)中國都是禁運(yùn)的，這些工藝不是簡(jiǎn)單的制造業(yè)需要時(shí)間日積月累來完成，路漫漫其修遠(yuǎn)兮，希望能幫到你。

我對(duì)光刻機(jī)不懂，對(duì)芯片也不懂，只說說自已的看法。

在很多人眼里，光刻機(jī)和芯片就是唯一的高科技，制造光刻機(jī)只有何蘭那家公司，制造高端芯片只有臺(tái)積電和三星。

不管是七納米也好，五納米也好，就是全宇宙第一也好，都是為了減少芯片體積，好塞進(jìn)功能日益增加的手機(jī)里面。但芯片可不止用于手機(jī)，上至航天器，下至日常電器，都有芯片的存在。軍用芯片要求皮實(shí)耐操，日常電器要求簡(jiǎn)單實(shí)用，對(duì)芯片體積要求不大，我想，生產(chǎn)這些芯片用不了何蘭公司的七納米光刻機(jī)吧。

現(xiàn)在增長最快的是車載芯片，汽車那么大，芯片大點(diǎn)應(yīng)無所:謂。高通芯片再先進(jìn)，目前也指染不了。

再說，荷蘭公司一年也就生產(chǎn)十多臺(tái)高端光刻機(jī)，除了臺(tái)積電和三星等，不見多少歐美公司用�？梢姄嗡酪簿湍敲创笫袌�(chǎng)，并非不可或缺。如果荷蘭公司的產(chǎn)品有航母丶火箭丶四代機(jī)那么重要，甚至有挖洞的盾構(gòu)機(jī)那么重要，早就沒荷蘭公司的事了。

我是農(nóng)民，語文水平不高，別笑我文筆不通。

如果中國可以做出光刻機(jī)，歐美國家會(huì)有什么反應(yīng)？這確實(shí)是個(gè)值得探討的問題，不只是光刻機(jī)，在我們這幾十年高速發(fā)展的歷史已經(jīng)證明，我們需要進(jìn)口的東西別人會(huì)聯(lián)合死勁抬高價(jià)格賺我們的錢并且還不會(huì)把最好的賣給我們，當(dāng)我們萌芽發(fā)展起來以后又不停的阻撓壓制我們，最后靠我們的堅(jiān)強(qiáng)反過來又搞死他們。光刻機(jī)一樣，當(dāng)我們做不出來時(shí)價(jià)格高昂還不把好的賣給我們，當(dāng)我們可以做出光刻機(jī)可以大批量生產(chǎn)時(shí)，估計(jì)也會(huì)遭遇這樣那樣的阻撓。

目前國產(chǎn)光刻機(jī)可以說還處于剛剛發(fā)芽的狀態(tài)，別人ASML已經(jīng)在7nm制程上大展身手了，我們量產(chǎn)的設(shè)備也就90納米，我們才剛剛研發(fā)出22nm的光刻機(jī)，差距不是一般的大。因?yàn)槲覀兊墓饪虣C(jī)起步很晚，再加上以前忽略國產(chǎn)高端芯片的研發(fā)制造也有關(guān)系。但早在2009年國產(chǎn)封裝光刻機(jī)就開始了生產(chǎn)，由上海微電子裝備有限公司研發(fā)的封裝光刻機(jī)應(yīng)用在了江陰長電先進(jìn)封裝有限公司里，并且應(yīng)用在8英寸及12英寸的多層光刻中。

現(xiàn)在研發(fā)出世界第一臺(tái)單次成像達(dá)到22納米的SP光刻機(jī)，也是非常厲害的了。這種光刻機(jī)與ASML的光刻機(jī)模式是不一樣的，按照ASML傳統(tǒng)模式走可能我們要實(shí)現(xiàn)趕超超越還不知道是猴年馬月的事情了，不過SP光刻機(jī)可能會(huì)改寫這樣的狀況實(shí)現(xiàn)彎道超車�？此�22納米與目前高端的7納米差很多，但情況并沒有這么悲觀。雖然SP光刻機(jī)單次成像達(dá)到22納米，但結(jié)合多重曝光的技術(shù)，可以制造10納米以下的信息器件。只不過要等到2022年左右才能完成驗(yàn)收，還要等幾年才能成熟的應(yīng)用。

在現(xiàn)階段我們國產(chǎn)光刻機(jī)還很弱小時(shí)，即使是歐美國家也沒有辦法阻撓，最多也就是封鎖封鎖技術(shù)和人才。但一旦有一定形成一定的氣候時(shí)，他們可能就會(huì)有各種各樣的方法與借口進(jìn)行阻撓到他們市場(chǎng)銷售等等。但就像以前家用電器發(fā)展一樣，當(dāng)我們強(qiáng)大到一定程度時(shí)，對(duì)他們形成反沖擊又不得不接受我們，只要產(chǎn)品品質(zhì)夠好，光刻機(jī)也會(huì)是一樣的。這幾十年的發(fā)展道路就是這樣走過來的。

不過，好事雖多磨，但終究會(huì)好起來的。

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如果我們做出光刻機(jī)，那對(duì)于我國芯片產(chǎn)業(yè)是最好的，說明我國的科技產(chǎn)業(yè)進(jìn)去了新的發(fā)展階段，基本上是即將結(jié)束了國外芯片一家獨(dú)大鵝子情況，

一、什么是光刻機(jī)

光刻機(jī)叫掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，主要是芯片制造的核心機(jī)器，芯片的工藝需要由于光來雕刻電路，這就是光刻機(jī)，需要對(duì)應(yīng)的光刻機(jī)才能生產(chǎn)對(duì)應(yīng)的芯片，比如7nm的芯片需要至少7nm芯片級(jí)的光刻機(jī)才能生產(chǎn)，所以光刻機(jī)本質(zhì)上就是芯片技術(shù)的保證，現(xiàn)在如果出來5nm光刻機(jī)，馬上就可以生產(chǎn)5nm芯片了，而沒有5nm光刻機(jī)，就不可能生產(chǎn)5nm芯片。

二、光刻機(jī)需要巨大的投入

光刻機(jī)龍頭asml1971年就從菲利普分出來了，已經(jīng)有近50年的歷史，而且投入巨大，2017年asml的研發(fā)成本是97億元，而一個(gè)光刻機(jī)的評(píng)論售價(jià)高達(dá)1億美元，euv光刻機(jī)成本高達(dá)1億歐元。

所以asml壟斷了光刻機(jī)，曾經(jīng)受制于西方的技術(shù)封鎖，asml都不賣最新的光刻機(jī)給我國，不過現(xiàn)在已經(jīng)開放了。

三、光刻機(jī)是對(duì)芯片的巨大發(fā)展

我國現(xiàn)在研發(fā)的光刻機(jī)甚至都不能使用生產(chǎn)CPU，所以用在技術(shù)要求不高的場(chǎng)景，所以這根本不可能打破國外的芯片壟斷，我們還是只能買高通，用amd的基礎(chǔ)架構(gòu)。

如果生產(chǎn)了光刻機(jī)，那西方就要擔(dān)心我們的芯片產(chǎn)業(yè)在全球領(lǐng)先了。而且整個(gè)芯片產(chǎn)業(yè)鏈都會(huì)發(fā)展起來。

你認(rèn)為我國芯片華為還有發(fā)展壯大的機(jī)會(huì)��？

哈哈，中國本身就是可以造出光刻機(jī)的，不過比世界最先進(jìn)的標(biāo)準(zhǔn)差兩到三代，荷蘭阿斯麥的高端光刻機(jī)現(xiàn)在可以做出7納米工藝的成熟產(chǎn)品，下一步應(yīng)該是5納米，3納米。

不過最近兩年我國光刻設(shè)備研發(fā)取得長足的進(jìn)步，發(fā)展驚人，就在前兩天爆出喜訊，中科院光電研究所攻關(guān)研制出世界首臺(tái)用紫外光源實(shí)現(xiàn)了22納米分辨率的光刻機(jī)。其實(shí)計(jì)劃是2030年要達(dá)到世界先進(jìn)水平，與世界先進(jìn)技術(shù)齊平，以現(xiàn)在看來可能會(huì)提前完成目標(biāo)。

我國光刻技術(shù)進(jìn)步，會(huì)使世界上的光刻設(shè)備銷售價(jià)變成白菜價(jià)，荷蘭阿斯麥的高端光刻設(shè)備售價(jià)可以達(dá)到1億多美金一臺(tái)，光一個(gè)極紫外光源就要3000萬，而我們的紫外光源只要幾萬塊錢一個(gè)，光刻機(jī)整機(jī)也只需百萬級(jí)別，到千萬級(jí)別的。其實(shí)我們?nèi)ベI它們的最頂端的光刻機(jī)，根本就不會(huì)賣給我們。

如果我們有了較先進(jìn)的光刻機(jī)，荷蘭阿斯麥會(huì)怎么做？

首先我們的技術(shù)達(dá)到什么級(jí)別。他會(huì)放開同級(jí)別的光刻機(jī)銷量，允許中國客戶去購買與國內(nèi)同級(jí)別技術(shù)的光刻機(jī)，前不久中芯國際不是訂購阿斯麥一臺(tái)好像是14納米制作工藝的光刻機(jī)，花了七八千萬吧，2019年交貨。好處就是它的技術(shù)較成熟，穩(wěn)定，成品率高，它其實(shí)愿意開放銷售，就是想把我們的技術(shù)踩在腳下，牽制我們的銷量。也是一種競(jìng)爭(zhēng)打壓。讓你的研發(fā)經(jīng)費(fèi)打水漂，長期回不來。

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沒有如果，中國現(xiàn)在就有現(xiàn)成的光刻機(jī)。不過歐美并沒有什么反應(yīng)，震驚是不可能的，因?yàn)槲覈�光刻機(jī)最高水平目前落后當(dāng)前國際最高技術(shù)水平的ASML差不多是十幾年的樣子，在民用市場(chǎng)幾乎不具備任何威脅。

目前中國有不到十家光刻機(jī)生產(chǎn)商的樣子，目前上市產(chǎn)品走在最前面的是上海微電子（SMEE），其次是長春國科，前者已經(jīng)可以生產(chǎn)整機(jī)，后者可以生產(chǎn)光刻機(jī)光源和曝光系統(tǒng)。上海微電子90nm光刻機(jī)已經(jīng)累計(jì)交付100臺(tái)，這里的90nm指的是分辨率極限為90nm，不代表芯片制程，芯片制程通常要比分辨率極限低再一些。

SMEE的SSA600/20光刻機(jī)，代表目前國產(chǎn)上市產(chǎn)品的最高水平

SMEE的幾款光刻機(jī)的技術(shù)參數(shù)

長春國科的90nm光刻機(jī)曝光系統(tǒng)

長春國科90nm光刻機(jī)曝光系統(tǒng)刻蝕面的電子顯微鏡照片

SSX600系列屬于上一代，也就是第四代光刻機(jī)技術(shù)水平。這種光刻機(jī)用的是ArF excimer laser光源，屬于一種準(zhǔn)分子光源，波長在193nm。然而在第四代中，SSX600也算不上先進(jìn)，因?yàn)樗�用的還是步進(jìn)掃描投影路線，這種路線工藝極限只能做到65nm，而我們之前見到的45nm，28nm工藝用的是第四代光刻機(jī)中的浸沒步進(jìn)式光刻機(jī)，這種光刻機(jī)將傳統(tǒng)光刻機(jī)鏡頭和光刻膠之間的空氣換成了液體，因此得名浸沒式，由于液體折射率較大，相當(dāng)于改變了NA。由光刻機(jī)分辨率=k1*λ/NA，可知，NA越大分辨率越高。因此浸沒式光刻機(jī)工藝可以大幅提升分辨率，做到45-22nm。浸沒步進(jìn)式光刻機(jī)是新的EUV光刻機(jī)出現(xiàn)前的產(chǎn)品，因此上海微電子這個(gè)只相當(dāng)于4代光刻機(jī)中的早期水準(zhǔn)，落后ASML 最新的EUV光刻機(jī)一代半。

浸沒式步進(jìn)光刻機(jī)的原理

ASML光刻機(jī)

那么是不是中國光刻機(jī)就毫無希望了呢？只能說要追趕還有太長的路要走，但希望還是有。2016年，上海微電子研發(fā)的28nm浸沒式光刻機(jī)已經(jīng)通過了驗(yàn)收，意味著即將投放市場(chǎng)；2017年，長春光機(jī)所已經(jīng)在超高精度非球面加工與檢測(cè)、極紫外多層膜、投影物鏡系統(tǒng)集成測(cè)試等核心單元技術(shù)取得突破，首次試制出了EUV光刻曝光裝置，首次得到了32nm線款的光刻膠曝光圖形。上面提到的光春國科其實(shí)是長春光機(jī)所的子公司，所以可以預(yù)見，背靠長光所的長春國科未來還是有相當(dāng)大潛力。

目前阿斯麥代表的euv光刻機(jī)是世界頂尖光刻機(jī)，再次一點(diǎn)的是日本的尼康與佳能，再次一點(diǎn)的，哈哈，就是上海微電子了。頂尖光刻機(jī)，數(shù)量少，價(jià)值高。光刻機(jī)市場(chǎng)銷量呈金字塔結(jié)構(gòu)，但是利潤呈倒金字塔結(jié)構(gòu)。

同一個(gè)制程，誰最先進(jìn)，誰統(tǒng)一整個(gè)市場(chǎng)。所以目前世界光刻機(jī)市場(chǎng)銷量方面呈現(xiàn)阿斯麥統(tǒng)一一流市場(chǎng)，日本尼康佳能統(tǒng)一二流市場(chǎng)，中國統(tǒng)一三流市場(chǎng)，但是利潤最少。

題主說的能不能造光刻機(jī)應(yīng)該指的是能不能造阿斯麥一級(jí)的euv光刻機(jī)。這種光刻機(jī)的制造是整個(gè)西方世界最先進(jìn)工業(yè)體系配套經(jīng)過不停摸索出來的結(jié)果。

阿斯麥的鏡頭大部分都是世界頂級(jí)相機(jī)生產(chǎn)商蔡司制造的，而光刻機(jī)上的鏡頭，很多都是通過工人借助高精密機(jī)器打磨的，這些工人大部分是世代相傳的手藝，而中國目前工業(yè)化也就幾十年。

機(jī)械部分的加工精度也要求很高，而德國通快等機(jī)床產(chǎn)業(yè)也為阿斯麥提供了支持。

所以如果中國能造出阿斯麥一級(jí)的光刻機(jī)，也就意味著我們的產(chǎn)業(yè)鏈上的公司已經(jīng)具備世界第一流的水準(zhǔn)，也就意味著航天，艦艇，飛機(jī)，發(fā)動(dòng)機(jī)的水準(zhǔn)也具備第一流水準(zhǔn)。

至于說芯片是不是就可以挑戰(zhàn)美帝霸權(quán)了。答案是不能，因?yàn)槊赖壅莆招酒�霸�?quán)并不是因?yàn)榭梢灾圃煨酒�。拿日本舉例，當(dāng)年日本在低價(jià)購買到美國的芯片制造技術(shù)后，迅速擴(kuò)大產(chǎn)能。在芯片制造領(lǐng)域，把美國打敗，但是因?yàn)樾酒�設(shè)計(jì)與基礎(chǔ)科研的落后，在美國推出cpu等通用芯片后，日本整個(gè)產(chǎn)能都顯得落后一代。

所以，美國的芯片霸權(quán)在設(shè)計(jì)層面是因?yàn)?.計(jì)算機(jī)基礎(chǔ)理論的研究走在了世界最前沿。2.成熟的金融體系為高風(fēng)險(xiǎn)活動(dòng)提供資金。3，健全的制度環(huán)境保證金融體系的健康運(yùn)轉(zhuǎn)。起碼在這些方面，我們還落后很多。

國外壟斷了，只能逼迫我們自己研發(fā)，最多是慢一點(diǎn)而已，最近國內(nèi)的一些基建設(shè)備，譬如開挖地鐵的盾溝機(jī)等，都不是國外封鎖自己研究的么。

國際空間站當(dāng)初沒有我們的份，現(xiàn)在自己建造的中國空間站快要運(yùn)行了。

西方對(duì)中國復(fù)興的恐懼，注定了核心技術(shù)只能靠自己，國外都是國際合作，各自專心鉆研自己的特長技術(shù)，中國要做，只能全產(chǎn)業(yè)鏈的做，這就注定了中國的科技之路要遠(yuǎn)遠(yuǎn)難于西方，但是一旦做出來，就不會(huì)受任何國家鉗制，譬如中國的火箭技術(shù)。

相信世界最先進(jìn)的芯片制造機(jī)在中國誕生指日可待！

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先來介紹什么是光刻機(jī)。

光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)。在生產(chǎn)芯片過程中，由于集成電路很細(xì)，就比如麒麟980芯片是7nm工藝的，就代表該芯片中電路寬度為7nm，并且電路數(shù)量動(dòng)輒幾億甚至幾十億條，顯然不能用機(jī)械雕刻，這就需要用“光”來雕刻電路，這就是光刻機(jī)的用途。

為了達(dá)到目的，科學(xué)家在金屬上覆蓋上一層光刻膠，然后利用光刻機(jī)去照射，那些被光線照射到的光刻膠就消失了，然后再用化學(xué)物質(zhì)腐蝕，那么電路的形狀就出來了�？梢�，光刻機(jī)在芯片、電路板的生產(chǎn)過程中多么重要。

正是因?yàn)楣饪虣C(jī)的精度高、技術(shù)要求高，光刻機(jī)的價(jià)格一直居高不下，動(dòng)輒幾千萬美元。更可氣的是最先進(jìn)的光刻機(jī)美國不賣給中國，這也是為什么國內(nèi)芯片達(dá)不到高精度，連生產(chǎn)工具都掌握在別的國家手里，生產(chǎn)出的芯片還能比得過別的國家嗎？

非常遺憾的是，現(xiàn)在國內(nèi)的光刻機(jī)還處于起步階段，水平落后世界很多。目前國內(nèi)能夠量產(chǎn)的光刻機(jī)只能夠光刻90nm的大規(guī)模集成電路，跟最先進(jìn)7nm的設(shè)備差距可以說是極大的。

就在上周四新華社發(fā)文稱，國家重大科研裝備研制項(xiàng)目——“超分辨光刻裝備研制”在成都成功通過專家組驗(yàn)收。報(bào)道稱該設(shè)備是世界上首臺(tái)用紫外光源實(shí)現(xiàn)了22納米分辨率的光刻機(jī)。筆者也有幸去了中科院光電所旁聽此次驗(yàn)收會(huì)，寫了報(bào)道，還算熟悉，無法茍同一些漫無邊際的瞎扯。

中科院研發(fā)的這臺(tái)光刻機(jī)并不能用來CPU，只能用在一些技術(shù)要求較低的場(chǎng)景。在驗(yàn)收會(huì)上有記者問：該光刻設(shè)備能不能打破國外芯片的壟斷？光電所專家回答說，光刻機(jī)用于芯片需要還攻克大量技術(shù)難題，目前距離還很遙遠(yuǎn)。

從目前來看，中國是有能力研發(fā)光刻機(jī)的，也成功量產(chǎn)了許多。但是要和最先進(jìn)的光刻機(jī)比，國內(nèi)還相差甚遠(yuǎn)。不過我們也不需要為之擔(dān)憂，在這方面中國本來起步就晚，現(xiàn)在比不過歐美國家也是正常的。都是相信在不久的將來，光刻機(jī)這一難題終將被攻克！

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