中國(guó)的光刻機(jī)技術(shù)和荷蘭的光刻機(jī)技術(shù),關(guān)鍵點(diǎn)的區(qū)別到底在哪?:一、體現(xiàn)在表像的是精度說(shuō)起光刻機(jī),大家喜歡和芯片制造對(duì)應(yīng)起來(lái),比如制造7nm芯片的光刻機(jī),制造
一、體現(xiàn)在表像的是精度
說(shuō)起光刻機(jī),大家喜歡和芯片制造對(duì)應(yīng)起來(lái),比如制造7nm芯片的光刻機(jī),制造14nm的光刻機(jī)等等。
目前中國(guó)最強(qiáng)的量產(chǎn)的光刻機(jī)是用于90nm的芯片的制造,而ASML量產(chǎn)的用于5nm芯片的制造的,這中間有多少差距,可能一般人還不太清楚。
用時(shí)間來(lái)說(shuō),起碼10年,如果用繼續(xù)用芯片制造的精度來(lái)看,中間有65nm,45nm,32nm,22nm,14nm,10nm,7nm,5nm。多少代,大家一年就清楚了,這可是實(shí)打?qū)嵉牟罹唷?/p>
二、實(shí)際是裝配工藝、經(jīng)驗(yàn)、人才的差距
而在相差這么遠(yuǎn)的背后,究竟差的是什么?其實(shí)是裝配工藝、人才、經(jīng)驗(yàn)的差距。
網(wǎng)上曾流傳一句說(shuō),ASML說(shuō)就算公開圖紙,別人也造不出一樣的光刻機(jī)出來(lái),這句話背后的底氣在哪里?
1、裝配工藝,光刻機(jī)中裝配是非常重要的,說(shuō)得不好聽一點(diǎn),就是組裝技術(shù),ASML的原件99%也是采購(gòu)的,但只有它能夠裝配得這么好,別人都不行。
2、而裝配工藝的差距,就是人才、經(jīng)驗(yàn)的差距,只有好的人才、幾十的經(jīng)驗(yàn),才能夠讓裝配工藝提高,達(dá)到真正的頂級(jí)水平。
在問(wèn)答上的643個(gè)問(wèn)題,只寫接地氣的科技內(nèi)容,歡迎關(guān)注。
不少人在半導(dǎo)體方面有一個(gè)誤區(qū),認(rèn)為中國(guó)之所以無(wú)法在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)有比較好的發(fā)展,落后于西方國(guó)家,主要原因是無(wú)法生產(chǎn)頂級(jí)的光刻機(jī)設(shè)備。而實(shí)際上,光刻機(jī)這個(gè)東西,雖然在芯片制造過(guò)程中起到了非常關(guān)鍵的作用,但是整個(gè)芯片從設(shè)計(jì)到制造再到商用,中間的鏈條上還有很多其它因素制約著我們。
實(shí)際上原子彈的核心意義,只是起到一個(gè)威懾的作用:你有,我沒(méi)有,我就擔(dān)心你對(duì)我使用核打擊;你有,我也有,我就不擔(dān)心你使用核打擊。因此原子彈這個(gè)東西就是所謂的“One is enough.”。不管是1萬(wàn)噸還是100萬(wàn)噸,我對(duì)你都具有威懾能力,再加上兩彈結(jié)合,可以實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)打擊,雙方就形成了一種制約。
因此原子彈不用考慮是否可以賺錢,本來(lái)就是軍事用途;不用考慮研發(fā)成本,國(guó)家戰(zhàn)略能夠投入多少就投入多少;不用考慮質(zhì)量問(wèn)題,造10枚只有1枚合格,跟造100枚100枚都合格,是一樣的,因?yàn)楦揪陀貌簧?.....實(shí)際上第一個(gè)造出原子彈的國(guó)家才是最辛苦的(美國(guó)的曼哈頓計(jì)劃),后面的國(guó)家想要仿制只會(huì)越來(lái)越簡(jiǎn)單。
芯片這個(gè)東西不一樣,芯片是商用的產(chǎn)品(拋開各國(guó)軍用的我們不說(shuō),這個(gè)層面都是關(guān)起門來(lái)各家玩各家的),不僅僅要造得出來(lái),而且你還得確保有性能上出色,質(zhì)量上要可靠,工藝上要很先進(jìn),要確?梢源笈可a(chǎn),而且你得擁有廣闊的市場(chǎng)能夠吃下你的產(chǎn)能。
換句話說(shuō),這個(gè)世界上,無(wú)論你是誰(shuí),主要打算做處理器這個(gè)東西,那么你唯一要考慮的東西就是:自己是不是可以造出比英特爾芯片價(jià)格更低,性能上差不多,質(zhì)量上可靠,能夠充足供貨的產(chǎn)品。如果可以,那么你就可以在市場(chǎng)上生存下去,比如說(shuō)AMD家的處理器。如果不行,那么這個(gè)行業(yè)壓根就不會(huì)買單,因?yàn)闆](méi)有人會(huì)去購(gòu)買性能落伍的產(chǎn)品。
可能上面用英特爾舉例子不太準(zhǔn)確,我只是想說(shuō)明:造芯片這個(gè)東西,很多國(guó)家都可以造,中國(guó)也有技術(shù)制造自己的處理器,但是造出來(lái)沒(méi)有市場(chǎng)。因?yàn)樾酒a(chǎn)業(yè)永遠(yuǎn)沒(méi)有“差一點(diǎn)”的芯片,英特爾在桌面處理器領(lǐng)域之所以能夠穩(wěn)坐第一名,主要是源源不斷向市場(chǎng)輸送大量?jī)?yōu)質(zhì)且便宜的處理器,市場(chǎng)份額足夠大,能夠充分?jǐn)偲匠杀,現(xiàn)在一枚i5處理器,在某寶上也就一千幾百多塊錢,普通家庭完全可以負(fù)擔(dān)。
這五家企業(yè),從原材料開采,到生產(chǎn)制造,到最后的質(zhì)量檢測(cè),全產(chǎn)業(yè)線覆蓋。坦率的講,如果沒(méi)有這些頭部的供應(yīng)商,什么英特爾、AMD、三星電子、臺(tái)積電、聯(lián)發(fā)科,統(tǒng)統(tǒng)都得挾菜。這里面1家是歐洲企業(yè),1家是日本企業(yè),3家是美國(guó)企業(yè)。角度放得再高一點(diǎn),這些企業(yè)都是資本主義陣營(yíng)的企業(yè)。因此我們要說(shuō)現(xiàn)在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)掌握在美國(guó)人手中也沒(méi)什么毛病。當(dāng)然,近半個(gè)世紀(jì)以來(lái)日本人在半導(dǎo)體行業(yè)也做出了非常大的貢獻(xiàn),可以具體了解了解佳能和尼康兩個(gè)“相機(jī)廠商”真正賺錢的是什么業(yè)務(wù)。
因此在供應(yīng)鏈上有差距,導(dǎo)致中國(guó)無(wú)法自主制造出高性能,并且能夠大規(guī)模商用的芯片,也就導(dǎo)致了在芯片行業(yè)上發(fā)力不足的表現(xiàn)。更何況在人才培養(yǎng)上面,中國(guó)由于某個(gè)些特殊歷史問(wèn)題,導(dǎo)致人才培養(yǎng)發(fā)展斷層了10年,這是最慘痛的教訓(xùn)。即便是今天,中國(guó)在半導(dǎo)體行業(yè)的人才缺口依舊高達(dá)40萬(wàn)。如果你家里有孩子準(zhǔn)備讀大學(xué),那么可以建議去考微電子專業(yè),當(dāng)然,收分不低,不超過(guò)一本線大幾十分還是別想了。
縱觀目前的電腦和芯片市場(chǎng),桌面端處理器英特爾第一,AMD第二,兩家吃掉了市場(chǎng)上幾乎99%的份額,絕對(duì)的寡頭壟斷地位。其它國(guó)家的企業(yè)想要超越幾乎已經(jīng)不可能,這個(gè)已經(jīng)不是技術(shù)上面的差距問(wèn)題,更多是生態(tài)捆綁利益共享的問(wèn)題。
比如說(shuō)光刻機(jī)這個(gè)東西,荷蘭ASML制造的光刻機(jī)是世界頂級(jí)的,最高可以賣到1億美元一臺(tái),已經(jīng)超過(guò)了波音777客機(jī)的售價(jià),而且每年的產(chǎn)能不過(guò)十幾臺(tái),早都被英特爾、臺(tái)積電這個(gè)企業(yè)預(yù)訂了,其它企業(yè)沒(méi)錢,也壓根拿不到貨。
比如說(shuō)英特爾和微軟自建相互捆綁銷售的PY協(xié)議,也就是臭名昭著的“安迪比爾”定律。微軟負(fù)責(zé)不斷升級(jí)系統(tǒng),吃掉英特爾處理器的性能,而英特爾確保不斷推出高性能的處理器提供給消費(fèi)者。這樣一來(lái)迫使消費(fèi)者需要不斷換新產(chǎn)品。
那么既然說(shuō)起了換新這個(gè)東西,怎么少得了手機(jī)這個(gè)行當(dāng)。目前國(guó)產(chǎn)手機(jī)確實(shí)在全球市場(chǎng)表現(xiàn)不錯(cuò),華為超越蘋果出貨量排名全球第二,后面的小米、OPPO、vivo這些品牌加起來(lái),中國(guó)品牌的出貨量超過(guò)了全球出貨量的一半。
不過(guò)問(wèn)題在于,目前除了華為一家是在采用自己的麒麟處理器之外,其它的幾家使用的全部是第三方廠商提供的解決方案,無(wú)論是高通還是聯(lián)發(fā)科。這樣帶來(lái)的問(wèn)題會(huì)是:如果某天,美國(guó)像打壓華為那樣打壓其它國(guó)產(chǎn)品牌的時(shí)候,怎么辦?處理器作為手機(jī)最關(guān)鍵的零部件,實(shí)際上中國(guó)品牌也是被掐著脖子在走。
更大的問(wèn)題在于,即便華為目前已經(jīng)掌握了手機(jī)處理器和基帶芯片的設(shè)計(jì)能力,但是最終落實(shí)到制造加工來(lái)說(shuō),依舊需要臺(tái)積電和三星這兩家企業(yè)來(lái)進(jìn)行代工,因?yàn)槿蛑挥羞@兩家企業(yè)掌握了7nm制成工藝。無(wú)論是蘋果,還是高通,還是華為,都只能選擇臺(tái)積電或者三星來(lái)代工生產(chǎn)。三星本質(zhì)上是美國(guó)企業(yè),臺(tái)積電美方資本占股也超過(guò)了50%,背后意味著什么不言而喻。
實(shí)際上中國(guó)每面需要對(duì)外進(jìn)口超過(guò)4000億件芯片用于各行各業(yè),總交易額超過(guò)3000億美元,是芯片消費(fèi)第一大國(guó)。但是目前臺(tái)積電已經(jīng)開始聯(lián)合博通公司開發(fā)5nm制成的工藝技術(shù),而中國(guó)的中芯國(guó)際剛剛在14nm成熟,往10nm方向發(fā)力的情況下,華為這樣的企業(yè),不僅僅是制造出一臺(tái)光刻機(jī)就可以拯救的。
我國(guó)的光刻機(jī)和荷蘭ASML光刻機(jī)的差距,反映了我國(guó)和西方精密制造領(lǐng)域的差距。一臺(tái)頂級(jí)的光刻機(jī),關(guān)鍵零部件來(lái)自于不同的西方國(guó)家,美國(guó)的光柵、德國(guó)的鏡頭、瑞典的軸承等,最麻煩的是,這些頂級(jí)零件對(duì)我國(guó)是禁運(yùn)的。
我國(guó)生產(chǎn)光刻機(jī)最好的企業(yè)是“上海微電子”,量產(chǎn)90nm工藝的光刻機(jī),而荷蘭ASML最新的額光刻機(jī)是7nm EUV光刻機(jī),差距還是比較大的。上海微電子是一家系統(tǒng)集成商,不生產(chǎn)關(guān)鍵零部件,所以做不出高端光刻機(jī),也不是它的責(zé)任。
目前,能做好的就是上海微電子做好中低端光刻機(jī),畢竟大多數(shù)的芯片不需要高端光刻機(jī)。做好了中低端,生存下去,慢慢培養(yǎng)國(guó)內(nèi)的零部件商,一點(diǎn)一點(diǎn)往上做。
目前,荷蘭的AMSL幾乎壟斷了高端光刻機(jī)市場(chǎng),最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)只有ASML能夠生產(chǎn)。我國(guó)的中芯國(guó)際曾經(jīng)在2018年成功預(yù)定了一臺(tái)EUV光刻機(jī),但是至今仍未收到,原因相信眾所周知,受到了某些外界因素的影響。不過(guò),中芯國(guó)際在現(xiàn)有的技術(shù)上,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了N+1,也就是7nm制程工藝。
荷蘭的ASML有一個(gè)非常奇特的規(guī)定“只有投資了ASML,才能優(yōu)先獲得供貨權(quán)”。由于EUV光刻機(jī)產(chǎn)量有限,早早被“合作伙伴”預(yù)定,三星、英特爾、臺(tái)積電、海力士等在AMSL都有可觀的股份,可以說(shuō)大半個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)都是ASML一家的合作伙伴。
除此之外,ASML的光刻機(jī)90%的零件均自外來(lái),德國(guó)的光學(xué)設(shè)備、美國(guó)的計(jì)量設(shè)備等,ASML就是要做到精確控制。7nm的EUV光刻機(jī)分為13個(gè)系統(tǒng),3萬(wàn)多個(gè)分件,要將誤差分散到這13個(gè)系統(tǒng)中,可見ASML的“神乎其技”。也難怪上海微電子的人到ASML參觀學(xué)習(xí),ASML說(shuō)“即便全套圖紙給你們,也做不出來(lái)”。
①充分利用國(guó)內(nèi)的資金和政策支持。中興事件告訴我們,不能對(duì)國(guó)外支持過(guò)于依賴,要有自己的核心技術(shù);
②分散進(jìn)攻,不可大包大攬。對(duì)于一些零件可以外包,甚至使用國(guó)外的零件,日后尋求替代,需要整合國(guó)家,甚至全世界的資源;
③使用堅(jiān)持自主研發(fā)和進(jìn)口替代。一定要掌握核心技術(shù),有些東西雖然暫時(shí)有國(guó)外產(chǎn)品可以應(yīng)用,但是人無(wú)遠(yuǎn)慮必有近憂,不能放棄對(duì)自主研發(fā)和核心技術(shù)的不懈追求。
如果覺(jué)得對(duì)你有幫助,可以多多點(diǎn)贊哦,也可以隨手點(diǎn)個(gè)關(guān)注哦,謝謝。
中國(guó)的光刻機(jī)在現(xiàn)有技術(shù)路徑下,在非EUV光源領(lǐng)域(193nm液浸式),假以時(shí)日,是可以追上荷蘭阿斯麥的,但在EUV(極紫外13.5nm光源)這條技術(shù)路線上,除非另開科技樹,追上阿斯麥的可能性不大。這就是我們和荷蘭光刻機(jī)技術(shù)的最關(guān)鍵差距,這已經(jīng)不單純是市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)問(wèn)題,而是和太平洋對(duì)岸的米國(guó)有關(guān),日本尼康(沒(méi)錯(cuò),造單反相機(jī)的那家公司)當(dāng)初就吃過(guò)這個(gè)癟,后面細(xì)說(shuō)其中淵源。
前面有回答說(shuō),頂級(jí)光刻機(jī)(限定于非EUV)的關(guān)鍵零部件來(lái)自于不同的西方國(guó)家,這一點(diǎn)不假,但要說(shuō)離不開德國(guó)(蔡司)的鏡頭、瑞典的軸承,這個(gè)有點(diǎn)稍顯夸張,因?yàn)槿鸬漭S承這樣的精密機(jī)械,隨著國(guó)內(nèi)機(jī)械工業(yè)進(jìn)步,是可以點(diǎn)開這棵科技樹的。
至于鏡頭,折射的鏡頭確實(shí)是蔡司的最好,但蔡司的鏡頭在EUV時(shí)代也被放棄了,因?yàn)橄辔徊顔?wèn)題和EUV光線經(jīng)過(guò)折射后能量損失較大,所以EUV光刻機(jī)改用鍍膜反射鏡頭。
實(shí)際上,阿斯麥通過(guò)控股蔡司的方式,使蔡司鏡頭只能獨(dú)家供應(yīng)阿斯麥,但并沒(méi)有壟斷非EUV光刻機(jī)(目前壟斷的是EUV光刻機(jī)),其它玩家還有日本的尼康和佳能,其中尼康的ArF(氟化氬光源)液浸式掃描光刻機(jī)和阿斯麥的同類光刻機(jī)有一拼,最高可以做到5nm.
當(dāng)然,尼康的5nm說(shuō)法有沒(méi)有吹,無(wú)法確證,因?yàn)楝F(xiàn)在芯片制造領(lǐng)域,為了市場(chǎng)宣傳需要,大喇叭們馬力開足,混淆概念,自立標(biāo)準(zhǔn),所以才出現(xiàn)了臺(tái)積電7nm工藝制造的芯片晶體管密度竟然和英特爾10nm工藝的相當(dāng)。
不過(guò),有一點(diǎn)可以肯定,尼康的NSR-S635E光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)中芯國(guó)際正在研發(fā)的7nm工藝問(wèn)題不大。
說(shuō)到這里,其實(shí)牽出另一個(gè)問(wèn)題,一直到2009年之前,光刻機(jī)的市場(chǎng),尼康還是老大,阿斯麥不過(guò)是后面追著跑的馬仔,為何10來(lái)年過(guò)去,尼康在光刻機(jī)市場(chǎng)混得越發(fā)破落,讓阿斯麥吃香喝辣呢?
除了尼康在液浸式光刻機(jī)上點(diǎn)錯(cuò)科技樹,讓阿斯麥借機(jī)上位外,最重要的是在研發(fā)EUV光刻機(jī)時(shí),被米國(guó)一腳踢開,無(wú)緣EUV光刻機(jī)。
1997年,英特爾和米國(guó)能源部共同發(fā)起成立EUV LLC組織,匯聚了美國(guó)頂級(jí)的研究資源和芯片巨頭,其中包括勞倫斯利弗莫爾實(shí)驗(yàn)室、勞倫斯伯克利實(shí)驗(yàn)室和桑迪亞國(guó)家實(shí)驗(yàn)室等三大國(guó)家實(shí)驗(yàn)室,聯(lián)合摩托羅拉(當(dāng)時(shí)如日中天)、AMD等企業(yè),投入2.25億美元資金,集中了數(shù)百位頂尖科學(xué)家,只為一件事:EUV(極紫外)光刻機(jī)到底可不可行?
說(shuō)白了,這是一項(xiàng)關(guān)于下一代光刻機(jī)的基礎(chǔ)研究,成了的話,等于點(diǎn)開了新的科技樹。
阿斯麥公司員工餐廳
當(dāng)時(shí)美國(guó)光刻機(jī)企業(yè)已經(jīng)衰落,市場(chǎng)上實(shí)力較強(qiáng)的主要是阿斯麥和尼康,佳能心比較大,眼看搞不過(guò)阿斯麥,掉頭專心做顯示器光刻行業(yè)了。因此,英特爾邀請(qǐng)尼康和阿斯麥一起參加EUV項(xiàng)目。當(dāng)然,英特爾也不是助人為樂(lè),而是考慮到有兩家公司參與的話,將來(lái)不用擔(dān)心被痛宰(參考蘋果公司的第二供應(yīng)商制度)。
但米國(guó)政府不樂(lè)意了,擔(dān)心最前沿的技術(shù)落入外國(guó)公司手中,因此反對(duì)阿斯麥和尼康加入EUV LLC。從這里也可以看出,美國(guó)和它的盟友并不總是掏心掏肺。
阿斯麥對(duì)美國(guó)政府許下一大堆承諾后,勉強(qiáng)進(jìn)入了EUV LLC這個(gè)超級(jí)朋友圈當(dāng)一個(gè)小角色。
沒(méi)有拿到EUV光刻機(jī)的入場(chǎng)券,尼康從此被關(guān)在高端芯片制造設(shè)備的門外,阿斯麥則壟斷了EUV光刻機(jī)市場(chǎng),盡管每臺(tái)賣1.2億美元,我們由于《瓦森納協(xié)議》限制,有錢買不到,中芯國(guó)際向阿斯麥下的EUV光刻機(jī)單子,錢交了,貨還在審批中。
芯片制造車間
在非EUV光刻機(jī)領(lǐng)域,有國(guó)產(chǎn)產(chǎn)品,性能落后一些,假以時(shí)日打磨,可以逐漸追上國(guó)際先進(jìn)水平,但在EUV光刻機(jī)領(lǐng)域,我們完全是一片空白,這影響到了我們的晶圓代工廠芯片工藝制造,卡在7nm上不去。而EUV光刻技術(shù)又被米國(guó)牢牢把控,別怪阿斯麥,在整個(gè)項(xiàng)目中,前面說(shuō)了,它也只是打醬油的。
所以,我們?nèi)绾卧贓UV光刻技術(shù)上點(diǎn)開科技樹,是當(dāng)前的一個(gè)重大挑戰(zhàn),也關(guān)系到國(guó)產(chǎn)芯片的未來(lái)。
我國(guó)自主光刻機(jī)是紫外光刻,能到90nm,65nm,也有報(bào)道說(shuō)22nm,14nm。14nm應(yīng)該不可能,65nm是可靠的。
據(jù)報(bào)道,去年4月武漢光電國(guó)家研究中心的甘宗松團(tuán)隊(duì),掌握了利用二束激光進(jìn)行9nm芯片工藝制程的技術(shù)。這是不一樣的技術(shù),還在研究中。
荷蘭現(xiàn)在是極紫外光刻技術(shù),可到7nm5nm甚至更小。
但我認(rèn)為我們國(guó)家和各企業(yè)非常重視這塊,技術(shù)很快就能突破,超過(guò)難,跟上國(guó)際先進(jìn)水平問(wèn)題不大
我國(guó)的光刻機(jī)目前能做的只有90nm制程,而荷蘭的ASML 最新EUV工藝光刻機(jī)可以做到7nm制程、6nm制程、5nm制程,并且一臺(tái)頂級(jí)的光刻機(jī)需要上萬(wàn)個(gè)零部件,需要不同國(guó)家的各個(gè)頂級(jí)部件,售價(jià)也高達(dá)7億人民幣。
我們國(guó)家技術(shù)差就差在沒(méi)有得到各個(gè)公司的頂級(jí)技術(shù)支持,以及國(guó)外對(duì)于光刻機(jī)關(guān)鍵部件的封鎖。看完以下荷蘭ASML光刻機(jī)為什么能夠成功,就可以知道我們究竟差在哪里。
先來(lái)說(shuō)說(shuō)市場(chǎng)占有:
荷蘭ASML公司是目前全球頂級(jí)光刻機(jī)的扛把子,雖然說(shuō)尼康(Nikon)和佳能(Canon) 也能夠提供商用的光刻機(jī),但它們與ASML光刻機(jī)市場(chǎng)占有率相比還是差非常多,ASML占據(jù)了全球80%以上的份額。
1、獨(dú)家供應(yīng)支持和技術(shù)分明
制造光刻機(jī)所需要的鏡片、光柵都是由德國(guó)和美國(guó)提供,這兩樣?xùn)|西對(duì)我們國(guó)家來(lái)說(shuō)都是禁止銷售的,也就是我們有錢也不可能買的到。我們就以德國(guó)蔡司公司提供的鏡頭來(lái)說(shuō),據(jù)說(shuō)這個(gè)工廠祖孫三代從事同一個(gè)職位,制造鏡頭技術(shù)根本不外傳,鏡片材質(zhì)要做到均勻,需幾十年到上百十年技術(shù)積淀。
再加之荷蘭ASML公司有一個(gè)模式,那就是只有投資它的公司才能夠優(yōu)先得到他們的頂級(jí)光刻機(jī)。例如蔡司就是投資了ASML,占據(jù)了它超過(guò)20%的股份。這些公司不單單投資它,也給它提供最新的技術(shù),這樣它就不是孤軍奮戰(zhàn)狀態(tài),做到了技術(shù)分工。像三星、英特爾、臺(tái)積電都對(duì)它有一定的投資,才能夠優(yōu)先獲得它的最先頂級(jí)的光刻機(jī)。
2、荷蘭對(duì)它足夠重視
荷蘭雖然是一個(gè)小國(guó)家,但它對(duì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)特別的重視,這讓ASML有很多自己的知識(shí)技術(shù)產(chǎn)權(quán)。一旦它擁有了這個(gè)產(chǎn)權(quán),別人是不能夠再使用,使用需要繳納一定費(fèi)用,這也就自然成就了ASML全球霸主的地位。
根據(jù)WTO公布的數(shù)據(jù),近十年來(lái),全球知識(shí)產(chǎn)權(quán)使用費(fèi)出口排名中,荷蘭(僅包括五年的數(shù)據(jù))達(dá)到2392億美元,僅次于美國(guó)和日本,超過(guò)英國(guó),法國(guó),德國(guó)等歐洲大國(guó)。
3、強(qiáng)大的研發(fā)投入
我們都知道華為投資超級(jí)多才造就了如今的海思麒麟處理器,而ASML的頂級(jí)光刻機(jī)也是一樣。在2019年 荷蘭ASML公司全球銷售額大概是21億歐元左右,它拿出了4.8億歐元進(jìn)行技術(shù)研發(fā),研發(fā)費(fèi)用占營(yíng)收的比例達(dá)到22.8%。因此它的成功不是偶然,是必然。
我們國(guó)家的光刻機(jī)主要是以上海微電子設(shè)備研究所的為主,它做的是國(guó)內(nèi)比較先進(jìn)的了,它的SMEE200系列光刻機(jī)只有90nm。其它的就更不能提了,例如合肥芯碩半導(dǎo)體公司都只能夠擁有200nm工藝。
當(dāng)時(shí)上海微電子的總經(jīng)理去德國(guó)考察時(shí),人家曾經(jīng)明確的說(shuō),就算我們給你們?nèi)椎膱D紙,你們也不可能做出來(lái)我們這種光刻機(jī)。
它之所以能夠說(shuō)出這種話,也不是對(duì)我們的一種鄙視,而就是現(xiàn)實(shí)。因?yàn)檫@個(gè)光刻機(jī)堪稱人類智慧集大成的產(chǎn)物,它被稱為現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花。曾經(jīng)有人這樣形容它的工作過(guò)程,就像坐在一架超音速飛行的飛機(jī)上時(shí),拿著線頭穿進(jìn)另一架飛機(jī)上的針孔。
雖然最近不斷的有好消息,例如2018時(shí)中科院的“超分辨光刻裝備研制”通過(guò)驗(yàn)收,它的光刻分辨力達(dá)到22nm,結(jié)合雙重曝光技術(shù)后,未來(lái)還可用于制造10nm級(jí)別的芯片。
但是與ASML比起來(lái)還是差很遠(yuǎn),并且它是處于實(shí)驗(yàn)室階段,想要真正商業(yè)化使用還是需要一段時(shí)間。而反觀現(xiàn)在的ASML,它的EUV光刻機(jī),已經(jīng)可以達(dá)到7nm,甚至5nm。因此我們的光刻機(jī)還處于不利地位,需要很長(zhǎng)一段路要走。
通過(guò)以上的介紹大家就可以知道我們與他們究竟差在哪里,這并不能說(shuō)我們不行。而是因?yàn)檫@個(gè)東西需要的部件太多了,也需要不同企業(yè)頂尖技術(shù)支持,只有把它們頂級(jí)技術(shù)進(jìn)行整合才能夠做出頂級(jí)光刻機(jī)。
而我們現(xiàn)在是肯定不行的,因?yàn)槊绹?guó)、歐盟對(duì)光刻機(jī)關(guān)鍵部件、技術(shù)都是嚴(yán)格封鎖,有再多的錢都不一定會(huì)出售。我們差就差在沒(méi)有整個(gè)行業(yè)頂級(jí)技術(shù)支持,以及先進(jìn)的鏡片支持。
我們要做的仍然是不斷加大研發(fā)投入,就像海思麒麟處理器一樣,只有不斷投入研發(fā),技術(shù)積累,各個(gè)行業(yè)緊密合作幫助才能夠做出頂級(jí)光刻機(jī)。2G、3G、4G一直落后于人,5G我們做到了領(lǐng)先。雖然我們現(xiàn)在光刻機(jī)很弱,但是相信經(jīng)過(guò)一段時(shí)間技術(shù)積累,我們?nèi)耘f可以做到領(lǐng)先,未來(lái)可期。
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你可能會(huì)這樣對(duì)比:
目前中國(guó)線上銷售的是90nm光刻機(jī);荷蘭銷售的是7nm EUV光刻機(jī)。怎么感覺(jué)中國(guó)的90nm光刻機(jī)應(yīng)該更厲害呢?事實(shí)上,真的如此嗎?
所謂的nm意思是在芯片制造中,在它身上形成的互補(bǔ)氧化物金屬半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管柵極的寬度,也被稱為柵長(zhǎng)。
上圖中,芯片的電流從Source(源極)流入Drain(漏級(jí)),Gate(柵極)相當(dāng)于閘門,它的作用就是用來(lái)控制Source(源極)與Drain(漏級(jí))的通斷,而Gate(柵極)就是能夠通過(guò)它的大小,控制電流的損耗,寬帶如果很小,自然經(jīng)過(guò)Gate的時(shí)間越短,損耗越小,處理器的功耗就越低!
比方是,Gate就像小兵,源級(jí)和漏級(jí)就像猛士,小兵越少,越容易通行!實(shí)際上,柵極的最小寬度(柵長(zhǎng)),就是X nm工藝中的數(shù)值。
未來(lái),我們就是在不斷的挑戰(zhàn)摩爾定律,將不可能的柵長(zhǎng)給控制的越來(lái)越低,這樣才能夠更好的將功耗給降低下來(lái),性能給提升上來(lái)。
為什么荷蘭可以做成7nm EUV的光刻機(jī)呢?這就要得益于荷蘭的方式,ASML的一些巧妙的心思。
其實(shí),荷蘭ASML的生產(chǎn)模式,決定了,ASML就很難會(huì)被模仿光刻機(jī)。
“因?yàn)槲覀兪窍到y(tǒng)集成商,我們將數(shù)百家公司的技術(shù)整合在一起,為客戶服務(wù)!
光刻機(jī)有80000個(gè)零件,等等一些配件告訴我們,制造光刻機(jī)的不容易,荷蘭ASML的聰明之處,讓許多技術(shù)類企業(yè)都成了它的股東,技術(shù)能夠共享,但是在我國(guó)很難!
確實(shí)很難,因?yàn)槲覀儾粫?huì)將三星,臺(tái)積電等等成為我們的股東,并且所謂的制約我們的技術(shù),也很難唄提供。
我們只能一切靠自己,各種新的技術(shù)必須要進(jìn)行不斷革新,從源頭上將光刻機(jī)的優(yōu)勢(shì)更好的發(fā)揮出來(lái),比如武漢光電國(guó)家研究中心甘棕松團(tuán)隊(duì),使用遠(yuǎn)場(chǎng)光學(xué)的辦法,光刻出最小的9nm線寬的線段……未來(lái)還有很多的技術(shù)在不斷的更新,打破束縛,我對(duì)于中國(guó)芯片是最看好的。
美國(guó)的打壓不會(huì)長(zhǎng)久生效,荷蘭遲早要和中國(guó)合作。中國(guó)光刻機(jī)與荷蘭的差別主要是在這一領(lǐng)域深耕的時(shí)間,以后的差距會(huì)逐步減少。
問(wèn)題:中國(guó)的光刻機(jī)技術(shù)和荷蘭的光刻機(jī)技術(shù),關(guān)鍵點(diǎn)的區(qū)別到底在哪?
回答:中國(guó)難就難在中國(guó)要一己之力對(duì)抗十多個(gè)國(guó)家的頂級(jí)工業(yè)。
大家都知道最好的光刻機(jī)是ASML的,而ASML是荷蘭的。
ASML怎么起來(lái),大家可能就不怎么知道的。ASML是歐美國(guó)家一起砸錢把它扶起來(lái)的。
當(dāng)初,ASML不夠錢,荷蘭政府給它優(yōu)惠,讓它做光刻機(jī);但是錢還是不夠,美國(guó)的公司、英國(guó)的公司、韓國(guó)的公司,一起入股它,讓它繼續(xù)做光刻機(jī);
后來(lái),還是不夠錢,ASML跟合作伙伴(也就是供應(yīng)鏈)一起做技術(shù),答應(yīng)優(yōu)先采用它們的零件,就是這樣整個(gè)歐美一起砸錢下去,加上ASML爭(zhēng)氣,ASML才做成的。當(dāng)初日本的尼康等企業(yè)也想做,但是錢不夠,就無(wú)法做了。
ASML采用的是日本的刻蝕氣體和膠、美國(guó)的光柵、德國(guó)蔡司的鏡、瑞典最頂級(jí)的軸承英國(guó)頂級(jí)的制造機(jī)床等等。
ASML是在這種情況下,才能做成的最頂級(jí)的光刻機(jī)。
上面說(shuō)到荷蘭的ASML是集齊了歐美的力量扶起來(lái)的,但是中國(guó)不是,上面說(shuō)到的頂級(jí)的零部件是對(duì)中國(guó)禁運(yùn)的。
那就意味著,中國(guó)想要做最頂級(jí)的光刻機(jī),要在刻蝕氣體上超過(guò)日本;在光源上超過(guò)美國(guó);在鏡頭上超過(guò)德國(guó)蔡司;在軸承上超過(guò)瑞典..........
要在某一方面,超過(guò)別人某一個(gè)國(guó)家成為頂尖真的很難了,中國(guó)因?yàn)楸唤\(yùn)這些零部件,要同時(shí)超過(guò)這么多國(guó)家在某些方面最頂尖的技術(shù)。更加可怕的是,我們是后來(lái)者,我們是從落后開始追趕的。
葉問(wèn)也只能打十個(gè)啊,這里要超過(guò)的也不只十個(gè)了,而且個(gè)個(gè)都是高手。
不是我們不努力,而是實(shí)在有一點(diǎn)難啊。中海微電子(SMEE)已經(jīng)有光刻機(jī),但是目前只能吃下一些低端市場(chǎng)。
我們的路還很長(zhǎng)。
區(qū)別可大了,國(guó)產(chǎn)最先進(jìn)的是“SSA600/20步進(jìn)掃描式DUV光刻機(jī),最小工藝制程節(jié)點(diǎn)為90納米,于2018年通過(guò)驗(yàn)收”。ASML的最先進(jìn)光刻機(jī)是“EUV光刻機(jī)NXE:3600D,工藝制程節(jié)點(diǎn)可以達(dá)到3納米,于2010年被制造來(lái)”。最大的差別就是在國(guó)際市場(chǎng)上:ASML的光刻機(jī)被搶著買,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)無(wú)人問(wèn)津。
SSA600/20光刻機(jī)使用的是波長(zhǎng)為193納米的Arf準(zhǔn)分子光源,由科益虹源制造,其頻率應(yīng)該是4Khz,功率為20W。而NXE:3600D光刻機(jī)使用的是波長(zhǎng)為13.5納米的EUV光源,其功率應(yīng)該要大于350W。根據(jù)分辨率與光源波長(zhǎng)和物鏡數(shù)值孔徑的關(guān)系式:CD=k1*(λ/NA),λ就是光源的波長(zhǎng),NA既是物鏡組的數(shù)值孔徑。想要提高光刻機(jī)的分辨率(減小制程工藝節(jié)點(diǎn))要么縮短光源的波長(zhǎng),要么增大物鏡組的數(shù)值孔徑?梢奡SA600/20的光源波長(zhǎng)是193納米,而NXE:3600D光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)為13.5納米,由此就可以看出兩者工藝制成節(jié)點(diǎn)的差距有多大了。
SSA600/20光刻機(jī)用的國(guó)望光學(xué)制造的數(shù)值孔徑為0.75的透鏡組,而NXE:3600D光刻機(jī)使用的是德國(guó)蔡司公司制造的數(shù)值孔徑為0.33的反光鏡。要知道NXE:3600D光刻機(jī)使用的這種反光鏡只有蔡司公司可以制造出來(lái),這種反光鏡的表面鍍了80多層鉬和硅制造的薄膜,每一層的薄膜的厚度都小于1納米,且薄膜的粗糙度在0.1納米級(jí)別。另外,反光鏡的表面必須極為的平整,如果把鏡片比作一個(gè)國(guó)家話,那么其最高點(diǎn)和最低點(diǎn)的距離在納米級(jí)別,由此可知EUV反光鏡的制造難度有多大。而SSA600/20使用的透鏡組是由合成石英制造的,難度相對(duì)來(lái)說(shuō)小一點(diǎn)。
SSA600/20光刻機(jī)使用的是華卓精科制造的DWS雙工件臺(tái),其運(yùn)動(dòng)平均偏差4.5納米,運(yùn)動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)偏差7納米,最大速度1.1米/秒,最大加速度2.4g。其主要采用了磁懸浮平面電機(jī)驅(qū)動(dòng),測(cè)量系統(tǒng)則是多軸激光干涉位移測(cè)量。而NXE:3600D光刻機(jī)使用的是ASML獨(dú)立研制的雙工件臺(tái)其運(yùn)動(dòng)精度可是非常高的。要知道用于浸沒(méi)式DUV光刻機(jī)的雙工件臺(tái)的運(yùn)動(dòng)平均偏差為2.5納米,運(yùn)動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)偏差為5納米,貌似ASML的雙工件臺(tái)運(yùn)動(dòng)偏差為1納米。所以說(shuō),差距還是挺大的。
以上三個(gè)部件的差距是最大的,此外還有就是光刻膠的差距。目前國(guó)內(nèi)最大的光刻膠公司是北京科華,該公司已經(jīng)制造出了EUV光刻機(jī)使用的光刻膠,但是DUV光刻機(jī)使用的光刻膠還在研發(fā)之中。國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)使用的光刻膠主要就是上海新陽(yáng)研發(fā)的Arf光刻膠。
除了技術(shù)性能的差別之外,SSA600/20與NXE:3600系列在國(guó)際國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的占有率差別更大。在國(guó)際市場(chǎng)上ASML的光刻機(jī)占據(jù)了67%,其他被尼康和佳能分了。而在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上上海微電子得產(chǎn)品占據(jù)了80%,其他20%應(yīng)該是被ASML占據(jù)的。但是在EUV光刻機(jī)市場(chǎng)上,絕對(duì)被ASML壟斷了,因?yàn)橹挥兴患铱梢灾圃斐鯡UV光刻機(jī)。
當(dāng)然了,國(guó)內(nèi)也在盡力研發(fā)浸沒(méi)式DUV光刻機(jī),也就是將要被上海微電子制造出來(lái)的SSA800系列。據(jù)目前透漏出來(lái)的消息看,2021年將交付首臺(tái)浸沒(méi)式DUV光刻機(jī),2030年制造出EUV光刻機(jī)。國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)的光刻膠已經(jīng)被北京科華制造出來(lái),且通過(guò)驗(yàn)收了。另外的雙工件臺(tái),反光鏡,光源都在研發(fā)之中,估計(jì)在2030年制造出EUV光刻機(jī)的希望還是挺大的,用10年的時(shí)間應(yīng)該足夠了。
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