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      人文藝術(shù) > 中國(guó)能做3納米的光刻機(jī)嗎?

      中國(guó)能做3納米的光刻機(jī)嗎?

      2020-08-23 18:44閱讀(62)

      中國(guó)能做3納米的光刻機(jī)嗎?:一、中國(guó)目前的技術(shù)在90nm,最先進(jìn)的ASML也是5nm,3nm無(wú)人能造首先回答問(wèn)題,那就是不能,目前中國(guó)量產(chǎn)的光刻機(jī)技:-光刻機(jī),納米

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      一、中國(guó)目前的技術(shù)在90nm,最先進(jìn)的ASML也是5nm,3nm無(wú)人能造

      首先回答問(wèn)題,那就是不能,目前中國(guó)量產(chǎn)的光刻機(jī)技術(shù)是90nm,90nm之后還有N個(gè)臺(tái)階,離3nm的差距,至少是10年起步。

      中國(guó)目前光刻機(jī)技術(shù)最強(qiáng)的是上海微電子,生產(chǎn)的光刻機(jī)還在90nm階段,處于光刻機(jī)技術(shù)的最后一檔。

      如上圖所示,中國(guó)的SMEE處于低端,也就是90nm,而日本canno也處于這一檔,而Nikon處于7-28nm。

      而技術(shù)最強(qiáng)的ASML目前的技術(shù)是5nm/7nm技術(shù),也沒(méi)有3nm技術(shù),所以現(xiàn)在說(shuō)3nm真的是太早太早了。


      二、光刻機(jī)的核心技術(shù)是什么,為何這么難?

      那么光刻機(jī)的核心技術(shù)是什么,為何這么難?其實(shí)從元件來(lái)看,核心元件是鏡頭,因?yàn)楣饪虣C(jī)的原理是放大的單反,用光把電路圖刻畫在硅片上,一次又一次,一層又一層的刻畫。

      所以核心指標(biāo)是分辨率、套刻精度,分辨率則是指能夠刻畫線路圖的分辨率,這個(gè)就是工藝的節(jié)點(diǎn)技術(shù),比如5nm、7nm等。

      而套刻精度則是指多次刻畫之間的精度,這兩項(xiàng)主要是在于組裝技術(shù),靠常年累月積累,經(jīng)驗(yàn)來(lái)實(shí)現(xiàn)的,這就是ASML的厲害之處,別人拿了它的圖紙,它的元件,也未必能夠做到的分辨率和套刻精度。

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      中國(guó)能做3納米的光刻機(jī)嗎?就目前來(lái)說(shuō),不但中國(guó)沒(méi)有制造出3nm的光刻機(jī),即使是全球最好光刻機(jī)廠商ASML也沒(méi)有辦法做出3nm的光刻機(jī)。


      光刻機(jī)是制造芯片所必須的設(shè)備,而高端光刻機(jī)全部被ASML所壟斷,除此之外的全球僅有的幾家光刻機(jī)廠家,如Nikon、Canon、SMEE等則在中低端市場(chǎng)展開(kāi)競(jìng)爭(zhēng)。其中中國(guó)的上海微電子裝備集團(tuán)即SMEE是國(guó)內(nèi)光刻機(jī)的佼佼者,其最先進(jìn)的制程也只能達(dá)到90nm,與ASML的7nm先進(jìn)制程光刻機(jī)相比,差距還很大。而ASML已經(jīng)在探討是否能夠?qū)崿F(xiàn)1.5nm制程光刻機(jī)的可能性了。


      中國(guó)是否能夠再短期內(nèi)制造出3nm的光刻機(jī)呢?不太可能。比如ASML最先進(jìn)光刻機(jī)需要13個(gè)系統(tǒng)、3萬(wàn)多個(gè)零部件,因其需要精準(zhǔn)的動(dòng)作將誤差控制嚴(yán)格,需要來(lái)自全球頂尖的技術(shù)、零部件、材料等的支持,單靠ASML是沒(méi)有能力在這么多領(lǐng)域達(dá)到要求的。所以其90%的零部件是從全球各地采購(gòu)最頂尖的,比如德國(guó)頂尖的光學(xué)設(shè)備、美國(guó)的計(jì)量設(shè)備及光源設(shè)備等。

      而如此之多的精密零部件設(shè)備,涉及到各種相關(guān)產(chǎn)業(yè),目前國(guó)內(nèi)的零部件可以解決有無(wú)的問(wèn)題,但不能解決最頂尖技術(shù)或最頂尖的零部件的問(wèn)題。也就是說(shuō)國(guó)內(nèi)的產(chǎn)業(yè)鏈條,目前還滿足不了生產(chǎn)高端光刻機(jī)所需要的零部件,而這些零部件又主要來(lái)自于對(duì)我們實(shí)施技術(shù)封鎖國(guó)家或地區(qū),比如美國(guó)。如果單靠國(guó)內(nèi)培育相關(guān)的產(chǎn)業(yè)鏈讓這些零部件達(dá)到全球領(lǐng)先水平,那也不知道要到何時(shí)才能夠?qū)崿F(xiàn)。


      目前中國(guó)制造3nm的光刻機(jī)有困難,即使是向ASML購(gòu)買7nm/5nm制程的光刻機(jī)也存在困難。根據(jù)西方泡制的《瓦森納協(xié)定》,我們只能購(gòu)買到我們自己當(dāng)前能夠達(dá)到的技術(shù)水準(zhǔn)的光刻機(jī),也就是我們自己如果具有了90nm的光刻機(jī)的能力,那么我們可以購(gòu)買到90-75nm這樣制程的光刻機(jī),而更好制程的光刻機(jī)則對(duì)我們是禁止的。所以國(guó)內(nèi)的華虹、中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ)等芯片制造企業(yè),都只能向ASML購(gòu)買中低端的光刻機(jī)。

      早在2年多以前中芯國(guó)際花費(fèi)大約1.5億美元向ASML訂購(gòu)了一臺(tái)7nm EUV光刻機(jī),不但中途各種波折,到目前是否能購(gòu)買成功還是未知數(shù)。不過(guò)國(guó)內(nèi)已經(jīng)知道了光刻機(jī)的重要性以及外購(gòu)的困難度,應(yīng)該說(shuō)國(guó)內(nèi)如上海微電子、中電科45所等必然會(huì)加大光刻機(jī)及相關(guān)零部件的研發(fā)力度,相信我們擁有高端光刻機(jī)也并非不可能。


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      做不了,起碼近年做不了。因?yàn)殛P(guān)于光刻機(jī)的研究制作方面,我們畢竟起步太晚,差距還是很大的。

      與人的大腦心臟一樣,現(xiàn)代數(shù)碼產(chǎn)品的核心是集成電路。光刻機(jī)就是制造大規(guī)模集成電路芯片的核心機(jī)器設(shè)備。目前,世界范圍內(nèi)只有荷蘭一家公司的產(chǎn)品獨(dú)霸天下(市場(chǎng)占有份額達(dá)80%以上)。

      我國(guó)對(duì)于集成電路芯片的需求量是非常大的。眾多的科研機(jī)構(gòu),關(guān)于大規(guī)模,超大規(guī)模集成電路的設(shè)計(jì)能力的整體水平還是很強(qiáng)的,可以設(shè)計(jì)出各類數(shù)碼產(chǎn)品,軍用民用所需之大規(guī)模,超大規(guī)模集成電路,但是生產(chǎn)這類集成電路芯片的光刻機(jī),倒成了攔路虎,成了瓶頸,被拖了各類數(shù)碼產(chǎn)品的后腿。掏錢買的話,會(huì)受到一些干擾限制,即便給你的,也是中、低端的產(chǎn)品,最新的產(chǎn)品你掏多少錢也不會(huì)給你。

      目前,我國(guó)是做不了3nm的光刻機(jī)的,僅能生產(chǎn)幾十上百nm的光刻機(jī)。當(dāng)然了,現(xiàn)在做不了,不等于以后也也做不了,至于何時(shí)能生產(chǎn)這類設(shè)備,相信為期也不會(huì)太遠(yuǎn)。因?yàn)殍b于此類高精尖的高科技產(chǎn)品的重要性,相信國(guó)內(nèi)的科學(xué)家正在合力攻關(guān),并且一定會(huì)取得成果的。

      圖片來(lái)自網(wǎng)絡(luò)

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      就像家里的臺(tái)式電腦一樣,這么多年以來(lái),壞了就是做系統(tǒng),換硬盤,電吹風(fēng)給主機(jī)吹土,也沒(méi)啥別的可修理的了。所以,也就是一招鮮吃遍天,換硬盤也就希捷西數(shù)的都是美國(guó)的品牌,這個(gè)國(guó)產(chǎn)硬盤還不能取代,仿造也不是太容易。所以,光刻機(jī)也沒(méi)那么神秘兮兮的,早晚會(huì)做成白菜價(jià)的,因?yàn),華為在研究著,華為不差錢,世界三萬(wàn)億美元的大公司來(lái)華為考察,任總不接待,不買華為設(shè)備不接待,華為任總就這么牛。華為就是中國(guó)先進(jìn)通信技術(shù)的代名詞。




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      前面的回答都已經(jīng)說(shuō)了3nm的光刻機(jī)全世界都沒(méi)有。那么我稍微跑一下題,聊聊關(guān)于光刻機(jī)的制造

      眾所周知,光刻機(jī)是芯片制造中最重要的一環(huán)(光刻機(jī)技術(shù)直接決定的芯片的質(zhì)量和性能),既然光刻機(jī)如此重要,那為什么光刻機(jī)這個(gè)市場(chǎng)沒(méi)有像芯片市場(chǎng)一樣,群雄爭(zhēng)霸,而是由ASML一家獨(dú)大呢?這個(gè)回答就帶大家看一看最真實(shí)的“半導(dǎo)體戰(zhàn)爭(zhēng)”

      狂妄的ASML

      2020年1月22日ASML發(fā)布了最新的季度和年度財(cái)報(bào)業(yè)績(jī),并舉行電話會(huì)議。ASML總裁Peter Wennink在這次會(huì)議上明確表示,高端的EUV光刻機(jī)永遠(yuǎn)不可能被中國(guó)模仿。

      我把他說(shuō)的原話大概總結(jié)一下:

      像高端的EUV光刻機(jī),就算中國(guó)愿意出比別人更多的價(jià)錢,也不是中國(guó)想買就能買到的。我把機(jī)器賣給你也不怕你拆解然后剽竊我的技術(shù),不僅僅因?yàn)檫@種機(jī)器有80000個(gè)零件,而且里面裝有傳感器,一旦檢測(cè)到有異常情況發(fā)生,我們總部就會(huì)響起警報(bào)。中國(guó)也不可能偷偷制造芯片,因?yàn)檫@樣必須要涉及很多專家。就算他們成功了,他們將給市場(chǎng)帶來(lái)很多無(wú)法追蹤來(lái)源的芯片,而最終曝光。


      為什么ASML可以一家獨(dú)大?

      看了上面Wennink的”自信“發(fā)言,是不是心中有一點(diǎn)憤慨?但Wennink的自信也不是沒(méi)有根據(jù)的。畢竟光刻機(jī)領(lǐng)域ASML就是一家獨(dú)大。

      如果說(shuō)芯片是人類汗水的產(chǎn)物,那么光刻機(jī)就是人類智慧的結(jié)晶

      那我們?cè)僬f(shuō)說(shuō)ASML是如何爬過(guò)佳能和尼康頭頂,一家獨(dú)大的。

      在日本半導(dǎo)體行業(yè)蒸蒸日上的那些年,尼康和佳能的光刻機(jī)一度是市場(chǎng)主流,英特爾45nm制程還在用尼康的光刻機(jī)。

      后來(lái)日本廠商因?yàn)榧夹g(shù)原因衰敗后,光刻機(jī)技術(shù)就成為了三大玩家暗中博弈(德國(guó)、美國(guó)、荷蘭)的舞臺(tái)。

      從上圖中我們就能看到,想研發(fā)生產(chǎn)光刻機(jī)需要兩個(gè)基礎(chǔ):頂級(jí)的光源和鏡頭。

      能給極紫外光刻提供鏡也只有蔡司,也只有美國(guó)光源能達(dá)到極紫外光刻的要求。

      然后再由英特爾推動(dòng)制程(7nm之前的每一個(gè)重大節(jié)點(diǎn)都是英特爾先弄出來(lái)的,沒(méi)有英特爾,ASML不會(huì)有今天這種盛況。)

      2009年,ASML遇到困難,然后英特爾、三星和臺(tái)積電共計(jì)投資52億美元支援ASML。

      說(shuō)ASML是個(gè)”雜交“公司一點(diǎn)也不為過(guò),它由不同的公司持股,比如:英特爾,臺(tái)積電,三星。但最大的股東還是美國(guó),所以美國(guó)對(duì)ASML由絕對(duì)的話語(yǔ)權(quán)

      這下,ASML要錢有錢,要資源有資源,他們就迅速的成為了行業(yè)的壟斷性巨頭。

      光刻機(jī)也是大國(guó)對(duì)弈

      前面已經(jīng)說(shuō)了,美國(guó)對(duì)ASML有絕對(duì)的話語(yǔ)權(quán),而光刻機(jī)作為集成電路制造過(guò)程中最核心的設(shè)備又至關(guān)重要,芯片廠商想要提升工藝制程,沒(méi)有它萬(wàn)萬(wàn)不行,中國(guó)半導(dǎo)體工藝一直上不去(以至于華為麒麟芯片一直都是找臺(tái)積電代工),光刻機(jī)被禁售是一個(gè)主要因素。

      為什么我們出再多錢ASML也不賣呢?這就要提到《瓦森納協(xié)定》。

      《瓦森納協(xié)定》又稱瓦森納安排機(jī)制,全稱為《關(guān)于常規(guī)武器和兩用物品及技術(shù)出口控制的瓦森納安排》,目前共有包括美國(guó)、日本、英國(guó)、俄羅斯等40個(gè)成員國(guó)(注:沒(méi)有中國(guó))

      簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是不把最新的設(shè)備賣給你,等過(guò)幾年我用舒服了,出了更先進(jìn)的設(shè)備時(shí),再把這一代設(shè)備賣給你。

      當(dāng)然了,對(duì)于光刻機(jī)我們國(guó)家也一直在研究制造,但因?yàn)槎喾矫嬉蛩,我?guó)性能最好的是光刻機(jī)都有90nm。制程上的差距大,所以國(guó)內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。


      好了我想說(shuō)的已經(jīng)差不多了,感謝大家能看到這里

      我是科氪芯,一個(gè)講故事,有態(tài)度的科技、數(shù)碼愛(ài)好者,關(guān)注我,帶你看看不一樣的科技世界

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      中國(guó)做不了,不但做不了就算給一臺(tái)這個(gè)等級(jí)的光刻機(jī)給他們現(xiàn)階段他們也沒(méi)這技術(shù)生產(chǎn)出3納米芯片!

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      為什么不能?中國(guó)在任何情都能創(chuàng)造出轟動(dòng)世界的奇跡,只是時(shí)間的問(wèn)題而已。

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      摩爾定律那么好打破嗎?確實(shí),臺(tái)積電已經(jīng)在規(guī)劃未來(lái)的3nm制造工藝,承諾2022年批量生產(chǎn);緊追不舍的三星宣布,已成功研發(fā)出首款3nm工藝芯片,基于全柵極(GAAFET)技術(shù)。所以,看似牢不可破的摩爾定律可能會(huì)在新技術(shù),新材料,以及全新地物理機(jī)制下,可能進(jìn)一步被打破。

      其實(shí),目前大家使用GAAMCFET(多橋通道FET)工藝取代之前的FinFET工藝;而美國(guó)還在禁止高科技出口禁令,這里包括了量子計(jì)算機(jī)、3D打印及GAA晶體管技術(shù)等等,而GAA晶體管技術(shù)確實(shí)是未來(lái)突破3nm工藝的重點(diǎn),如果我們突破不了這種GAA晶體管技術(shù),可能在3nm工藝中,會(huì)很難進(jìn)一步。

      如今,我們上海微電子的分辨率為90nm,而之前,武漢光電國(guó)家研究中心的甘棕松團(tuán)隊(duì),成功研發(fā)出9nm工藝的光刻機(jī)。

      這一次使用的是二束激光在自研的光刻機(jī)上突破了光束衍射極限的限制,刻出了最小9nm線寬的線段。

      我覺(jué)得國(guó)內(nèi)的光刻機(jī)工藝如果想要攻克這種困難,主要還是在材料上,如果在材料上解決這個(gè)問(wèn)題,可能美國(guó)等國(guó)家的限制就不存在了。

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      最近由于美國(guó)針對(duì)華為種種政策行為

      引得我們對(duì)“芯片”這一凸顯科技實(shí)力的設(shè)備,更多的關(guān)注。很多人不理解,為什么像華為這種擁有5G技術(shù)加持,并且領(lǐng)先世界的科技企業(yè)會(huì)被一個(gè)小小的“芯片”感到為難。那下面我們簡(jiǎn)短的分析及了解下,難在哪里。

      國(guó)芯目前還處于對(duì)7nm芯片客戶導(dǎo)入階段

      日前,中芯國(guó)際聯(lián)席CEO梁孟松博士首次公開(kāi)了中芯國(guó)際N+1、N+2代工藝的情況,透露N+1工藝相比于14nm性能提升20%、功耗降低57%、邏輯面積縮小63%,SoC面積縮小55%,之后的N+2工藝性能和成本都更高一些。

      外界認(rèn)為中芯國(guó)際的N+1代工藝相當(dāng)于臺(tái)積電的7nm工藝,,N+1是中芯國(guó)際的內(nèi)部代號(hào),并不等于7nm。根據(jù)這個(gè)信息,N+1工藝跟業(yè)界公認(rèn)的7nm工藝主要差距是性能,20%的性能增幅不如業(yè)界的35%性能提升,但其他指標(biāo)差別不大。

      在最新的年報(bào)會(huì)議上,中芯國(guó)際表示N+1工藝的研發(fā)進(jìn)程穩(wěn)定,已進(jìn)入客戶導(dǎo)入及產(chǎn)品認(rèn)證階段。之前該公司表示去年底試產(chǎn)了N+1工藝,今年底會(huì)有限量產(chǎn)N+1工藝。

      總之,即便中芯國(guó)際的N+1工藝在性能上還有一定差距,但是有消息稱國(guó)產(chǎn)的7nm級(jí)工藝今年底前就會(huì)問(wèn)世,雖未獲得求證但,這依然是一件大事。

      我國(guó)唯一可以生產(chǎn)光刻機(jī)的企業(yè)

      提到芯片就會(huì)想到光刻機(jī),正是因?yàn)楣饪虣C(jī)的技術(shù)限制,才導(dǎo)致我們今天的被動(dòng),目前我國(guó)唯一一家可以生產(chǎn)光刻機(jī)設(shè)備的公司就是上海微電子,可以生產(chǎn)制造90nm的光刻機(jī),而ASML可以生產(chǎn)7nm甚至5nmEUV光刻機(jī),差距還是很大。

      不過(guò),據(jù)國(guó)內(nèi)媒體報(bào)道的消息,上海微電子預(yù)計(jì)將在2021年交付首臺(tái)28nm的光刻機(jī),差距正在逐漸縮小。

      雖然還是有差距,但是上海微電子正在全力追趕,這種頂尖機(jī)器的研發(fā)需要長(zhǎng)期的技術(shù)累積,才能有所突破,絕不是一蹴而就的。

      全球最先進(jìn)的光刻機(jī)生產(chǎn)商阿斯麥

      據(jù)國(guó)內(nèi)媒體報(bào)道,荷蘭ASML(中文名阿斯麥)公司日前與江蘇無(wú)錫市高新區(qū)政府簽署合作協(xié)議,設(shè)立了光刻設(shè)備技術(shù)服務(wù)(無(wú)錫)基地,服務(wù)國(guó)內(nèi)客戶發(fā)展。

      眾所周知,全世界能夠生產(chǎn)最 先進(jìn)7nm制程EUV光刻機(jī)的只有荷蘭ASML公司,這家出身于著名電器制造商飛利浦的芯片機(jī)企業(yè),如今已經(jīng)是全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商之一。甚至可以說(shuō),如果想要生產(chǎn)最 先進(jìn)的芯片,目前只有找ASML合作才可能實(shí)現(xiàn)。

      光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)中非常關(guān)鍵的設(shè)備,在工藝提升到7nmEUV、5nm之后,已只有極紫外光刻機(jī)能滿足要求,阿斯麥則是目前唯一能制造極紫外光刻機(jī)的廠商。

      阿斯麥所生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī),光源的波長(zhǎng)縮短到了13.5nm,而極紫外光刻機(jī)之前最 先進(jìn)的深紫外光刻機(jī),使用的則是波長(zhǎng)為193nm的光源。

      三星、臺(tái)積電已經(jīng)宣布對(duì)3nm工藝進(jìn)行研究,十分超前

      三星今年第一季度所公布的財(cái)報(bào)來(lái)看,他們?cè)诎雽?dǎo)體方面的業(yè)務(wù)非常強(qiáng)勢(shì),其中DEAM芯片占到了總利潤(rùn)的75%之多,三星如今越來(lái)越重視芯片方面的研發(fā)與投入。

      因?yàn)閺漠?dāng)前的局面看來(lái),臺(tái)積電拿下麒麟處理器、蘋果A系列處理器這些訂單都嚴(yán)重挑戰(zhàn)了三星的地位,他們必須快馬加鞭提高自身的能力才能保持優(yōu)勢(shì)。

      而當(dāng)前即將在年底攻關(guān)7nmLPP工藝,再往下就是5LPE、4LPE,同時(shí)三星也已經(jīng)在準(zhǔn)備全新的晶體管結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),將采用3GAAE這樣的技術(shù)實(shí)現(xiàn)3nm,可以說(shuō)又是一種非常尖端的技術(shù),工藝難度極高。

      目前使用ASML公司EUV光刻機(jī)的主要是臺(tái)積電及三星,而今年也是這兩家晶圓代工廠5nm量產(chǎn)的節(jié)點(diǎn)。同時(shí)雙方都已宣布,對(duì)于3nm工藝的研發(fā)已經(jīng)有所突破,但按照計(jì)劃,可能需要等到2022年才會(huì)量產(chǎn),這也與ASML發(fā)布下一代光刻機(jī)的步調(diào)基本一致。

      總結(jié)

      雖然目前我們還不能制造出3nm的光刻機(jī),但相信這只是暫時(shí)的,我們現(xiàn)在所得到的所有的限制,其實(shí)都是對(duì)手的一種“另類”尊重,害怕我們趕上的表現(xiàn),所以將來(lái)我們總會(huì)超越他們。

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      現(xiàn)在全世界最先進(jìn)的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè),也不能生產(chǎn)3納米的光刻機(jī)。

      荷蘭的ASML公司,能生產(chǎn)5納米和7 納米的光刻機(jī)。中國(guó)最先進(jìn)的光刻機(jī)企業(yè)上海微電子,可以生產(chǎn)90納米的光刻機(jī)。比世界先進(jìn)水平落后了八九代,二三十年。

      中國(guó)其他的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)。只能生產(chǎn)200 納米的光刻機(jī)。

      即使荷蘭的ASML公司,也要一兩年之后,才能生產(chǎn)3納米的光刻機(jī)。

      中國(guó)的企業(yè)若想生產(chǎn)3納米的光刻機(jī)。可能要30年之后。

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