當(dāng)然可以。

我國(guó)上海微電子裝備有限公司是專門研發(fā)和生產(chǎn)光刻機(jī)設(shè)備的科技公司。光核機(jī)技術(shù)水準(zhǔn)在90納米。

無(wú)錫影速半導(dǎo)體科技有限公司，是由中科院微電子研究所聯(lián)合業(yè)內(nèi)資深技術(shù)團(tuán)隊(duì)成立的微電子高科技公司，生產(chǎn)亞微米半導(dǎo)體制版光刻設(shè)備等，技術(shù)水準(zhǔn)在200納米。

合肥芯碩半導(dǎo)體有限公司，這家成立比較早，2006，是承擔(dān)國(guó)家兩項(xiàng)02專項(xiàng)任務(wù)民營(yíng)高科技公司，主要生產(chǎn)半導(dǎo)體光刻設(shè)備。水準(zhǔn)200納米內(nèi)。

京先騰科技有限公司，發(fā)起人杜成群。杜成群博士先在清華任教，后留學(xué)荷蘭，在荷蘭ASM??公司從事光刻研究，擁有60多項(xiàng)光刻技術(shù)專利。2010回國(guó)為國(guó)內(nèi)芯片出力。水準(zhǔn)在800納米。

還有許多公司都在研發(fā)光刻設(shè)備。有共同特點(diǎn)都是起步較晚，要趕上國(guó)際水準(zhǔn)，還需付出更多努力。需要更多人才投入。

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我國(guó)能生產(chǎn)光刻機(jī)。只是在技術(shù)水平上與國(guó)外最先進(jìn)的有差距。

不過(guò)我們一直沒(méi)放棄努力，現(xiàn)在已經(jīng)有望縮小差距了。再堅(jiān)持一下，黎明前的黑暗就會(huì)過(guò)去。

光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備之一。

芯片生產(chǎn)，需要用到幾個(gè)最關(guān)鍵的設(shè)備：分別是光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、清洗機(jī)、等離子注入機(jī)。我們都能生產(chǎn)�？涛g機(jī)已經(jīng)達(dá)到世界最頂尖水平。清洗設(shè)備和等離子注入也堪用�，F(xiàn)在差的就是高精度的光刻機(jī)。

光刻機(jī)有什么用呢？下面通俗說(shuō)一下光刻機(jī)在芯片生產(chǎn)中的作用。

下面把芯片生產(chǎn)比喻成木匠雕花，可以方便普通人理解。（二者主要是精度差別，材質(zhì)差別。木匠雕花精度到毫米即可，芯片要到納米。木匠用木頭雕刻，芯片用硅的晶圓雕刻）

芯片生產(chǎn)：

第一步：設(shè)計(jì)。芯片設(shè)計(jì)公司進(jìn)行設(shè)計(jì)，最后出圖。這就像木匠雕花，先由設(shè)計(jì)師畫圖。

第二步：備料。芯片的主料是圓晶，就是硅，當(dāng)然還要用些輔助材料。木匠買來(lái)木料等。

第三步：放樣。這時(shí)要用到光刻機(jī)了。要用光刻機(jī)把設(shè)計(jì)好的圖紙畫到圓晶上。這里要求精度必須和設(shè)計(jì)精度匹配。如果這一步做不了，后面就只能干瞪眼了。木匠也要放樣，根據(jù)圖紙，在木料上把要雕刻的圖樣描畫好。。

第四步：施工。這時(shí)刻蝕機(jī)上場(chǎng)。有等離子刻蝕或者化學(xué)刻蝕可選�？涛g時(shí)按圖施工。這就好比木匠師傅按畫好的圖案雕刻，使用鑿子，刻刀是一樣的。施工中要注意保持環(huán)境衛(wèi)生。

第五步：清洗。其實(shí)是和施工混合在一起的，邊施工邊清洗。這就好比木匠雕刻時(shí)用毛刷，或者用嘴巴吹木屑。只是芯片要求的清洗超級(jí)嚴(yán)格。

第四、第五步要重復(fù)多次，具體情況視加工芯片的復(fù)雜情況而定。

第六步：封裝。施工完畢后要保持住施工成果，隔絕一切可能的傷害，芯片封裝要求也很高，要用到離子注入等設(shè)備。木匠這環(huán)節(jié)簡(jiǎn)單。施工完畢后，現(xiàn)場(chǎng)都清理干凈了，弄點(diǎn)清漆把作品保護(hù)好。

如果不能用高精度的光刻機(jī)放樣，是生產(chǎn)不出來(lái)高水平的芯片的。光刻機(jī)在制造流程中要使用多次，包括最后的封裝環(huán)節(jié)也要用。

下面說(shuō)說(shuō)光刻機(jī)的市場(chǎng)狀況：

現(xiàn)在高等級(jí)的光刻機(jī)世界上有美國(guó)、荷蘭、日本三個(gè)國(guó)家5個(gè)公司能生產(chǎn)。分別是荷蘭的ASML、日本的Nikon、日本的cannon、美國(guó)的ultratech以及我國(guó)的上海微電子（SMEE）。

這五家里面，荷蘭的ASML一家獨(dú)大，完全壟斷了高精度光刻機(jī)。

目前還在追趕的，只有中國(guó)，其他幾家都放棄了。因?yàn)殡y度太大。

目前ASML的技術(shù)是10nm，馬上是7nm。

上海微電子的技術(shù)是90nm。

我們能買到的最新設(shè)備的技術(shù)是中芯國(guó)際即將投產(chǎn)的生產(chǎn)線14nm。

下圖是上海微電子生產(chǎn)的光刻機(jī)

好消息是2017年，長(zhǎng)春光機(jī)所承擔(dān)的國(guó)家科技重大專項(xiàng)項(xiàng)目“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”順利通過(guò)驗(yàn)收，這標(biāo)志著國(guó)產(chǎn)22-32 nm設(shè)備就要出來(lái)了。我們離ASML又近了一步。

這里，我們要感謝那些默默無(wú)聞風(fēng)險(xiǎn)在科研領(lǐng)域的人，他們是中國(guó)自強(qiáng)不息的脊梁。下面照片是驗(yàn)收后科研人員合影留念。為這個(gè)突破，花了16年時(shí)間。讓我們向他們致敬。

光刻機(jī)最近比較火是因?yàn)橹信d被美國(guó)封殺事件不得使用高通芯片最終近期高通不得不全線產(chǎn)品使用聯(lián)發(fā)科的產(chǎn)品，由此可見芯片對(duì)于手機(jī)產(chǎn)業(yè)的重大影響。

光刻機(jī)是芯片制造的最核心設(shè)備之一，可以分為幾類：

1，用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)；

2，用于封裝的光刻機(jī)；

3，用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。

一、中國(guó)光刻機(jī)與世界的差距

用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備的最大的短板。光刻機(jī)域的老大是荷蘭的ASML，該公司生產(chǎn)的EUV系列光刻機(jī)售價(jià)高達(dá)1億美元，并且只有ASML能夠生產(chǎn)，可以說(shuō)asml幾乎壟斷了光刻機(jī)的高端市場(chǎng)。

目前國(guó)內(nèi)光刻機(jī)和國(guó)外的差距是極為巨大的，但是我們能看到的是，光刻機(jī)是我過(guò)要重點(diǎn)發(fā)展的行業(yè)。國(guó)家扶植。

由于美國(guó)主導(dǎo)《瓦森納協(xié)議》的限制，中國(guó)根本不可能進(jìn)口光刻機(jī)的高端設(shè)備。只能有機(jī)會(huì)買到ASML的中低端產(chǎn)品。舉例：Intel、三星、臺(tái)積電2015年能買到ASML10 nm的光刻機(jī)。而國(guó)內(nèi)，2015年只能買到ASML 2010年生產(chǎn)的32 nm的光刻機(jī)，5年時(shí)間對(duì)半導(dǎo)體來(lái)說(shuō)，已經(jīng)足夠讓市場(chǎng)更新?lián)Q代3次了。這就導(dǎo)致即使通過(guò)設(shè)備學(xué)習(xí)國(guó)外的光刻機(jī)技術(shù)，中國(guó)已經(jīng)落后三代產(chǎn)品，更不用說(shuō)觀看和拆解根本不可能學(xué)會(huì)光刻機(jī)新技術(shù)。

由于進(jìn)出口貿(mào)易的限制，國(guó)內(nèi)目前沒(méi)辦法安裝ASML EUV光刻機(jī)，所以也導(dǎo)致無(wú)法學(xué)習(xí)最先進(jìn)的光刻機(jī)技術(shù)。目前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)與國(guó)外差距太大，根本無(wú)法在高端市場(chǎng)上參與競(jìng)爭(zhēng)，。根據(jù)預(yù)估，近年來(lái)我國(guó)每年集成電路產(chǎn)品進(jìn)口金額與每年原油進(jìn)口金額大致相當(dāng)，每年已經(jīng)超過(guò)2000億美元。

二、中國(guó)光刻機(jī)發(fā)展歷程

中國(guó)最好的光刻機(jī)廠商上海微電子（SMEE）已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機(jī)中，性能最好的設(shè)備相當(dāng)于2004年上市的奔騰四CPU的水準(zhǔn)。所以由此可知，中國(guó)至少落后于國(guó)外14年，這對(duì)于2年更新一次的光刻機(jī)行業(yè)，中國(guó)落后了7代。

2008年國(guó)家將EUV光刻技術(shù)列作為重要課題，長(zhǎng)春光機(jī)承擔(dān)起了“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”項(xiàng)目研究工作。此后《中國(guó)制造2025》將EUVL列為了集成電路制造領(lǐng)域的發(fā)展重點(diǎn)，并計(jì)劃在2030年實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)的國(guó)產(chǎn)化。

8年后的2016年，項(xiàng)目提前完成測(cè)試，突破了現(xiàn)階段制約我國(guó)極紫外光刻發(fā)展的核心光學(xué)技術(shù)，初步建立了適應(yīng)于極紫外光刻曝光光學(xué)系統(tǒng)研制的加工、檢測(cè)、鍍膜和系統(tǒng)集成平臺(tái)。這才進(jìn)行中國(guó)光刻機(jī)時(shí)代的奠基。而asml光刻機(jī)已經(jīng)誕生了30年，市場(chǎng)份額高達(dá)80%。

極紫外光刻被公認(rèn)為是最具潛力的下一代光刻技術(shù)，面對(duì)的是7nm和5nm節(jié)點(diǎn)，代表了當(dāng)前應(yīng)用光學(xué)發(fā)展最高水平。

光刻機(jī)又叫做:掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，簡(jiǎn)單的來(lái)說(shuō)光刻就是將硅圓表面涂上光刻膠，通過(guò)光將掩膜版上復(fù)雜的電路結(jié)構(gòu)復(fù)制到光刻膠上面的過(guò)程，我國(guó)目前能生產(chǎn)光刻機(jī)的主要有以下幾家:

1. 上海微電子裝備有限公司，已經(jīng)量產(chǎn)90nm光刻機(jī)，其65nm光刻機(jī)商用量產(chǎn)也已經(jīng)提上日程
2. 中子科技集第四十五研究所光電已經(jīng)量產(chǎn)的是1500nm光刻機(jī)
3. 先騰光電科技已經(jīng)量產(chǎn)800nm光刻機(jī)
4. 無(wú)錫影速光電科技目前已經(jīng)量產(chǎn)200nm光刻機(jī)
   

談到光刻機(jī)就不得不談到ASML，這個(gè)光刻機(jī)行業(yè)說(shuō)一不二的龐然大物，只有它能生產(chǎn)7nm級(jí)別的光刻機(jī)，每臺(tái)7nm制程光刻機(jī)售價(jià)1.2億美元，17年產(chǎn)量只有12臺(tái)，預(yù)計(jì)今年達(dá)到18臺(tái)，至于其“一視同仁”的態(tài)度，中國(guó)不知道哪一年能買到一臺(tái)，中國(guó)光刻機(jī)企業(yè)在其面前就是一個(gè)小孩。

很多人都有疑問(wèn)中國(guó)在晶圓材料，蝕刻機(jī)，e—beam，掩膜，標(biāo)靶，封裝等領(lǐng)域都有了巨大突的突破，華微電子的芯片材料和中微半導(dǎo)體科技的蝕刻機(jī)都是世界一流，為什么單單光刻機(jī)攻克不了。

第一沒(méi)有足夠的技術(shù)和人才積累，半導(dǎo)體行業(yè)在我國(guó)起步晚，在國(guó)外的技術(shù)封鎖之下，技術(shù)底子薄，尤其在機(jī)械精度方面差距甚遠(yuǎn)，高端光刻機(jī)需要做到兩個(gè)平臺(tái)同時(shí)運(yùn)動(dòng)，而差距不能超過(guò)2nm，這而一根頭發(fā)的寬度是60000nm。

第二沒(méi)有頂尖的零件，ASML的零件全是各行業(yè)的龍頭企業(yè)提供，鏡頭來(lái)自德國(guó)蔡司，光源來(lái)自沒(méi)過(guò)cymer，機(jī)器組裝來(lái)自韓國(guó)和臺(tái)灣，都是各行業(yè)最頂尖的存在，而中國(guó)什么都得自己來(lái)。

第三沒(méi)有足夠的資金，ASML每年的研究開發(fā)費(fèi)用都是以十億美元為單位，中國(guó)企業(yè)雖然在國(guó)家扶持之下，有了更多的研發(fā)資金，但是顯然還達(dá)不到這個(gè)水平。

中國(guó)芯片行業(yè)的進(jìn)步是毋庸置疑，同時(shí)也要直面一些方面巨大的差距，發(fā)揚(yáng)中華民族吃苦耐勞的民族精神，通過(guò)自己的努力把路一步一步走出來(lái)，因?yàn)槁浜笾荒鼙黄圬?fù)。

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答案是：可以的！

但是先別這么高興，因?yàn)槲覀兡軌蛏�產(chǎn)的出來(lái)的光刻機(jī)，跟荷蘭的ASML光刻機(jī)差距真的很大��！

我國(guó)生產(chǎn)光刻機(jī)最好的是：上海微電子！這是中國(guó)唯一一家生產(chǎn)高端前道光刻機(jī)整機(jī)的公司，同時(shí)華卓精科是唯一的光刻機(jī)工件臺(tái)供應(yīng)商。

上海微電子目前承擔(dān)著國(guó)家科技重大專項(xiàng)“極大規(guī)模集成電路制造裝備與成套工藝專項(xiàng)”的65nm光刻機(jī)研制。而且是正在承擔(dān)著65nm的研制，能不能研發(fā)成本還需要看以后的情況。

差距很大

大家可能不知道65nm是一個(gè)怎么樣的水平哦。我就直接坦白地說(shuō)：荷蘭的ASML的目前的水平是14nm！

這個(gè)差距真的很大。而且更加恐怖的的，荷蘭的ASML目前也在研發(fā)更加精細(xì)的制程，10nm已經(jīng)投入使用，7nm的也在準(zhǔn)備了。我們目前還在研發(fā)65nm。那就意味著我們的不僅比別人落后，如果要想超越別人，一定要跑得比別人更快。

研發(fā)費(fèi)用巨大

而且更加恐怖的是，制程越小，研發(fā)費(fèi)用越大。每更新一代都是上億美元的投入，90nm到65nm可能研發(fā)是X億，但是從65nm往更小制程研發(fā)可能是幾個(gè)X億的資金投入。所以研發(fā)出來(lái)了要市場(chǎng)化投入使用才能使得企業(yè)運(yùn)營(yíng)下去。

同時(shí)，由于美國(guó)主導(dǎo)的《瓦森納協(xié)議》，我們不能從荷蘭進(jìn)口ASML的先進(jìn)的光刻機(jī)。我們提出了《中國(guó)制造2025》，這一個(gè)目標(biāo)匯中，包括集成電路制造領(lǐng)域的發(fā)展重點(diǎn)，我們最終的計(jì)劃是在2030年實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)的國(guó)產(chǎn)化。

這個(gè)對(duì)于我們來(lái)說(shuō)，難度真的非常大。荷蘭ASML的領(lǐng)先程度到了什么程度了？當(dāng)初英特爾扶持尼康，防止ASML獨(dú)大，但是尼康的在芯片光刻機(jī)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)不過(guò)ASML，ASML實(shí)在太強(qiáng)大了。

不過(guò)，就算道路再難，我們還是得走下去。中興給我們的教訓(xùn)可以說(shuō)是非常深刻的，我們一定要有自主能力。

畢竟這是起步的初期，路漫漫其修遠(yuǎn)兮。

我們國(guó)家可以生產(chǎn)，最高可以生產(chǎn)大概是60納米左右的，對(duì)32納米來(lái)說(shuō)，不知道要等幾年；實(shí)驗(yàn)室可以流片多少納米未知，全球來(lái)說(shuō)，ASML是歐洲跟美洲幾十個(gè)國(guó)家企業(yè)一起出資供養(yǎng)的，原來(lái)日本可以生產(chǎn)，后來(lái)投入太大，被終止了，現(xiàn)在能適應(yīng)市場(chǎng)的就只有ASML生產(chǎn)的光刻機(jī)，其它公司生產(chǎn)出來(lái)也沒(méi)什么用的；在2018年今年7納米光刻機(jī)就有了，2020年就是4納米，2022年就有2納米，這些都是生產(chǎn)線的計(jì)劃，光刻機(jī)的進(jìn)度是在生產(chǎn)線之前；最大的問(wèn)題是ASML的研發(fā)速度這么快，是大量資金跟資源堆出來(lái)的；我國(guó)向追上去，很難，除非有其它特別的突破，不然先進(jìn)制程永遠(yuǎn)無(wú)法民用。

報(bào)道說(shuō)中國(guó)已經(jīng)生產(chǎn)出來(lái)7納米的刻蝕機(jī)，也就是說(shuō)在機(jī)電的步進(jìn)精度上我國(guó)已經(jīng)有了好的基礎(chǔ)，剩下的是光學(xué)系統(tǒng)和控制系統(tǒng)，想來(lái)不會(huì)太遠(yuǎn)的時(shí)間中國(guó)擁有高精度光刻機(jī)的時(shí)刻就會(huì)來(lái)到！！

最近一段時(shí)間中興被制裁事件一石起千浪，跟芯片有關(guān)的光刻機(jī)也被大家推上熱點(diǎn)，那動(dòng)不動(dòng)就幾千萬(wàn)美金的光刻機(jī)我國(guó)能制造嗎？

我們先來(lái)掃盲下光刻機(jī)

說(shuō)到到光刻機(jī)如果不是科班出身，估計(jì)很多人都不知道這是什么樣的一個(gè)東東。但是我們?nèi)粘Ｊ褂檬謾C(jī)的CPU制造工藝都離不開光刻機(jī)。

光刻機(jī)又稱掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，或者曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是利用光來(lái)制作一個(gè)圖形（工藝）

高端光刻機(jī)號(hào)稱世界上最尖端的科技稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。

光刻機(jī)有什么作用？

光刻機(jī)有什么作用呢？為何高端光刻機(jī)一臺(tái)能賣幾千萬(wàn)美金，甚至上億美金呢？

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)；有用于封裝的光刻機(jī)；還有用于 LED 制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。

其中用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是技術(shù)難度最大的。

芯片光刻機(jī)就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的wafer曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到wafer上。

我國(guó)能生產(chǎn)光刻機(jī)嗎？

答案：能，但只能生產(chǎn)中低端的光刻機(jī)。

目前國(guó)內(nèi)最知名的光刻機(jī)企業(yè)有幾家。

上海微電子裝備有限公司(SMEE)已量產(chǎn)的光刻機(jī)中性能最好的，技術(shù)水準(zhǔn)是90nm。

無(wú)錫影速半導(dǎo)體科技有限公司，技術(shù)水準(zhǔn)200納米。

合肥芯碩半導(dǎo)體有限公司，技術(shù)水準(zhǔn)200納米。

其他都是200納米以外。

當(dāng)前我國(guó)高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口

雖然我國(guó)目前也能生產(chǎn)光刻機(jī)，但是我們不得不面對(duì)的一個(gè)現(xiàn)實(shí)是，用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是中國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板，國(guó)內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。

高端光刻機(jī)一般都是能達(dá)到45納米以上的水準(zhǔn)，而目前我國(guó)最好的光刻機(jī)只有90納米。

目前世界上能生產(chǎn)高端光刻機(jī)的也就幾家，除了龍頭老大 荷蘭ASML外，尼康和佳能也能生產(chǎn)。

但是在市場(chǎng)份額上ASML占據(jù)了絕對(duì)市場(chǎng)份額。而且他家掌控著目前最尖端的技術(shù)。所以價(jià)格賣得很貴。像ASML的 EUV NXE 3350B 單價(jià)超過(guò)1億美元，ArF Immersion售價(jià)大約在7000萬(wàn)美元左右。

北方華創(chuàng)好像可以，不過(guò)跟國(guó)外有代差，中微電子也正在研發(fā)。

整體來(lái)說(shuō)我們國(guó)家芯片制造業(yè)差距很大，因?yàn)橄冗M(jìn)的設(shè)備其實(shí)也是需要一堆高精尖技術(shù)，精密機(jī)床，攝像頭光學(xué)儀器等組合起來(lái)。

只有整體產(chǎn)業(yè)上去了才有可能，但是這些都對(duì)我們禁售。

最先進(jìn)的是荷蘭的amsl，產(chǎn)能被intel 三星和臺(tái)積電包圓了，買都買不到啊……

芯片生產(chǎn)需要蝕刻機(jī)和光刻機(jī)。我國(guó)生產(chǎn)的蝕刻機(jī)，加工精度為5nm，是世界主流產(chǎn)品。我國(guó)能生產(chǎn)光刻機(jī)，但是我國(guó)目前生產(chǎn)的光刻機(jī)，其精度僅為14nm，遠(yuǎn)不如荷蘭生產(chǎn)的光刻機(jī)精度高，荷蘭產(chǎn)光刻機(jī)精度為7nm。

據(jù)說(shuō)目前，荷蘭已研制出精度為5nm的光刻機(jī)。而我國(guó)研制的精度為7nm的光刻機(jī)，還在進(jìn)行最后測(cè)試，最快也要到明年上半年，才能投產(chǎn)上市。按工業(yè)科技的演進(jìn)計(jì)算，我國(guó)光刻機(jī)技術(shù)，至少比荷蘭落后三年，因?yàn)楹商m7nm光刻機(jī)，三年前就開始對(duì)全球發(fā)售了。

我國(guó)生產(chǎn)的光刻機(jī)精度不如荷蘭的光刻機(jī)，也就意味著用我國(guó)光刻機(jī)生產(chǎn)芯片，產(chǎn)出的合格產(chǎn)品率，偏低。這也就意味著用我國(guó)光刻機(jī)，生產(chǎn)出的合格芯片，其單位成本，要遠(yuǎn)高于用荷蘭光刻機(jī)生產(chǎn)出的合格芯片。

由于用我國(guó)光刻機(jī)生產(chǎn)出的合格芯片，其單位成本較高，而我國(guó)產(chǎn)芯片的成本，最終會(huì)攤到下游產(chǎn)成品中去，因此會(huì)直接拉高我國(guó)終端產(chǎn)品的單位成本。產(chǎn)品成本被拉高，產(chǎn)品售價(jià)也將隨之上漲。產(chǎn)品售價(jià)上漲，將直接削弱我國(guó)相關(guān)產(chǎn)品的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。

芯片的產(chǎn)能丶性能丶單位生產(chǎn)成本，將直接關(guān)乎5G技術(shù)應(yīng)用與推廣。5G技術(shù)對(duì)經(jīng)濟(jì)發(fā)展有巨大的拉動(dòng)作用。因此，盡快提高我國(guó)生產(chǎn)的光刻機(jī)精度，對(duì)我國(guó)經(jīng)濟(jì)發(fā)展極具意義。