這個(gè)問題提得有問題，中國(guó)早就有光刻機(jī)了。只不過是中低端的，能生產(chǎn)22納米的芯片，不能生產(chǎn)7納米以下的高端光刻機(jī)。

十年內(nèi)能否生產(chǎn)出高端光刻機(jī)，這個(gè)很難說，現(xiàn)代科技日新月異，更新?lián)Q代很快。有的發(fā)明一兩年就過時(shí)了。象影碟機(jī)，傳喚機(jī)，磁卡電話，變化周期非常短。過去日本電視的摸似技術(shù)最好，美國(guó)來個(gè)數(shù)碼技術(shù)，一下就把摸似技術(shù)甩出幾條街。

很有可能十年后，說不定芯片制造已經(jīng)不用光刻機(jī)了，被另外的科學(xué)技術(shù)代替了。在十年前你會(huì)想到視頻通話嗎？可能當(dāng)時(shí)這種想去是個(gè)天方夜潭，結(jié)果幾年就實(shí)現(xiàn)了。現(xiàn)代科技，十年之內(nèi)，我們意想不到的事情，隨時(shí)都有可能發(fā)生。

用毛主席的話說，一萬年也要造出來，要用多久就用多久！這個(gè)時(shí)間我們不要定！

先不說能否生產(chǎn)出來，先說十年后生產(chǎn)出來的光刻機(jī)能否派上用場(chǎng)還是個(gè)大大的問號(hào)，一是你研制創(chuàng)新，別人也沒有閑著，只有趕超才有意義。二是十年后的芯片是否還是硅基材料說不準(zhǔn)，若改用其他材料比如碳基材料等，還用不用光刻機(jī)也說不準(zhǔn)。故十年后能否生產(chǎn)出光刻機(jī)是個(gè)沒有意義的疑問，至少最近幾年還是要光刻機(jī)的。

我國(guó)十年前就能做光刻機(jī)啦！關(guān)鍵是做到什么層次，應(yīng)該問我國(guó)在今后的十年內(nèi)能做3~5nm的光刻機(jī)嗎？可以說只要碳基獲得突破，完全能做到反超。

應(yīng)該不用十年，當(dāng)然可能不是最高端的，但一定是國(guó)際先進(jìn)的。

中國(guó)光刻機(jī)60年代就有了，成熟是上海中微得90納米，2021年會(huì)出做到7納米到大約68納米光刻機(jī)。

你是問能否出現(xiàn)在asml可以到2納米導(dǎo)14納米光刻機(jī)，3年5年內(nèi)會(huì)搞出來。光刻機(jī)原理是照相機(jī)，對(duì)系統(tǒng)整合能力要求很高 只有大型衛(wèi)星能與之比。其中所需高端光源和雙工作臺(tái)都有出來，中國(guó)找搞搞分衛(wèi)星人才整合各個(gè)廠家很快取得突破。

上海中微是世界主要光刻機(jī)廠家之一。有家研究所走中間計(jì)劃，第一次曝光有20納米，不比asml14納米，多次曝光到5納米也可以。

asml整合了世界供應(yīng)商，中國(guó)也要看整合能力。中國(guó)看整合能力， 主要是造宇航設(shè)備的企業(yè)，如果由設(shè)計(jì)制造衛(wèi)星經(jīng)驗(yàn)得管理項(xiàng)目，可能很快。

高分衛(wèi)星就是照相機(jī)，光刻機(jī)也是照相機(jī)，價(jià)格都是億級(jí)。

但有光刻機(jī)需要很多投入，積累很多經(jīng)驗(yàn)，才能達(dá)到臺(tái)積電和三星到5納米工藝，并不容易。半導(dǎo)體制造是很辛苦得工作 ，要求極高。就是有臺(tái)可以到7納米光刻機(jī)，造40納米都很難。

現(xiàn)在不是有了嗎？還需要十年？

做的出也未必生產(chǎn)的出合格的芯片，真正的核心生產(chǎn)技術(shù)人家是不會(huì)申請(qǐng)專利而公之于眾的！而是由少數(shù)幾個(gè)技工秘密掌握!

看什么水平的光刻機(jī)，現(xiàn)在也有你不知道嗎？重獎(jiǎng)之下必有勇夫，漢芯系列不也是國(guó)際領(lǐng)先，弘芯也在追趕，?芯不會(huì)太遠(yuǎn)了。

十年？光刻機(jī)也在更新，十年后也許什么新發(fā)明就出來能替代光刻機(jī)了，所有，如果短時(shí)間內(nèi)不能研發(fā)出光刻機(jī)估計(jì)后幾年就可以換換思路了。