我國可以量產(chǎn)的是90nm制程工藝的光刻機(jī)，全球最先進(jìn)的是荷蘭ASML的7nm EUV光刻機(jī)，可以說我國的光刻機(jī)技術(shù)與世界先進(jìn)水平還有很大的差距。但是，還有一個問題，即便有錢，也很難買到最先進(jìn)的7nm EUV光刻機(jī)，下文具體說一說。

    與荷蘭ASML的差距

    資料顯示，我國生產(chǎn)光刻機(jī)的廠商是上海微電子（SMEE），成立于2002年，目前所生產(chǎn)的光刻機(jī)，主要用于90nm及其以下芯片制造工藝，幾乎壟斷了全球低端光刻機(jī)市場，占到了全球80%以上的市場份額，但是在高端光刻機(jī)領(lǐng)域為零。

    上海微電子與荷蘭ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域的差距，反映了我國在精密制造領(lǐng)域的差距，一臺全球頂級的光刻機(jī)的關(guān)鍵零部件來自西方不同的發(fā)達(dá)國家，美國的光柵、德國的鏡頭、瑞典的軸承、法多的閥件等等，更麻煩的是，這些零部件對我國是禁運的。

    因此，上海微電子只能先做好中低端光刻機(jī)，畢竟80%以上的芯片并不要高端光刻機(jī)，做好了中低端，生存下去，然后慢慢培養(yǎng)國內(nèi)零部件廠商，向高端光刻機(jī)領(lǐng)域發(fā)展。

    購買高端光刻機(jī)“一波三折”

    最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)全球只有荷蘭的ASML能夠生產(chǎn)，售價超過了1.5億美元。我國的中芯國際早在2017年就預(yù)定了一臺7nm EUV工藝的光刻機(jī)，預(yù)計2019年年初交貨，但是到了2020年，仍然未交貨。

    第一次延期：2018年12月，ASML的主要元器件供應(yīng)商Prodrive工廠發(fā)生火災(zāi)，中芯國際預(yù)定的光刻機(jī)延期。

    第二次延期：出售EUV光刻機(jī)需要荷蘭政府發(fā)放許可證，在美國的種種施壓下，先是對這臺光刻機(jī)進(jìn)行審計，只要美國制造的零件占到25%的價值，就需要美國出口許可證；再是以“國家安全”為由，拿出了《瓦森納協(xié)議》，企圖封殺這筆訂單。

所以，至今中芯國際仍未收到這臺7nm EUV光刻機(jī)。

    總之，我國光刻機(jī)與世界先進(jìn)水平的差距，主要是制造工藝的差距。雖然，武漢光電研究中心已經(jīng)突破了9nm光刻技術(shù)，但是在關(guān)鍵零部件、材料等方面仍然無法滿足量產(chǎn)的需求。這也印證了一句話“自己有才是真的，只有你突破了技術(shù)，就沒有人能卡住你的脖子”。

如果覺得對你有幫助，可以多多點贊哦，也可以隨手點個關(guān)注哦，謝謝。

光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最重要的設(shè)備，技術(shù)先進(jìn)的還是由荷蘭ASML公司生產(chǎn)，我國也有在研發(fā)生產(chǎn)光刻機(jī)，但技術(shù)水平還比較落后，無法滿足現(xiàn)代芯片工藝要求。

我國光刻機(jī)的發(fā)展現(xiàn)狀與技術(shù)水準(zhǔn)

目前我國能生產(chǎn)光刻機(jī)的企業(yè)有5家，最先進(jìn)的是上海微電子裝備有限公司，光刻機(jī)量產(chǎn)的芯片工藝是90納米，目前正在向65納邁進(jìn)，因為90納米是一個臺階，如果能過關(guān)，后面的65、45就很容易攻破，按照目前的發(fā)展速度，預(yù)計在2020年可以達(dá)到22納米。

日本佳能和尼康的退出，只有荷蘭ASM占統(tǒng)治地位，與它相比，國產(chǎn)光刻機(jī)有較大差距

日本還有兩家光刻機(jī)設(shè)備商佳能和尼康，佳能因為此項業(yè)務(wù)虧損，在2008年就退出了。而尼康的光刻機(jī)受到了英特爾的限制，新的制程不用尼康的光刻機(jī)，給了尼康沉重的打擊以致衰敗。現(xiàn)在只有荷蘭ASML占統(tǒng)治地位，它們的工藝已經(jīng)達(dá)到了7nm，還在研發(fā)5nm中，而我國的光刻機(jī)設(shè)備是90nm，65nm還在研發(fā)中。顯而易見，我國的光刻機(jī)技術(shù)還有很大的差距。

我國光刻機(jī)的發(fā)展成果

2016年我國完成了“極紫外光刻技術(shù)”的驗收，歷經(jīng)八年的研究成果終于換來了回報，這對于光刻技術(shù)具有里程碑的意義。極紫外光刻是最具有代表性的光刻技術(shù)，它是以13.49nm的EUV光來用作投影，比其它的投影光源更全面，是投影技術(shù)的臨界點，獲得這項技術(shù)對光刻機(jī)的提升起著很大的作用，計劃在2030實現(xiàn)EUV光刻機(jī)量產(chǎn)。

雖然我國的光刻機(jī)技術(shù)落后，但一個小小的突破就會給我們很大的信心，也代表了中國企業(yè)在半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的決心，期望早日突破光刻機(jī)技術(shù)難關(guān)，迎來中國芯。

你好，我是微電子在讀研究生，希望我的回答對你和看到的朋友有一點點幫助！

我國量產(chǎn)芯片的光刻機(jī)跟國際領(lǐng)先的水平差了十幾年的水平！這差距真的是有些大，可能很多朋友看到一些新聞?wù)f的，國產(chǎn)實現(xiàn)了5nm的刻蝕機(jī)，而且得到了芯片制造一哥臺積電的認(rèn)可，但是光刻機(jī)還是差距比較大的！可能說出來很多人不太相信這么大的差距！但用在商用方面的能夠量產(chǎn)芯片的光刻機(jī)確實這么大的差距！我們后輩真的是要努力了呀！后輩當(dāng)自強(qiáng)�。」�哈！

光刻機(jī)

光刻機(jī)有很多分類，現(xiàn)在最先進(jìn)的商用量產(chǎn)芯片光刻機(jī)是EUV光刻機(jī)，目前能夠掌握這種技術(shù)并能夠量產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司只有一家，是哪家呢？我相信很多人都看過很多次這個公司的名字了，ASML，這家公司呢，也不是上來就這么厲害，剛開始也是被一些傳統(tǒng)的大公司擠兌的不行了，但是經(jīng)過十幾年的發(fā)展，在光刻機(jī)這方面，尤其是高端光刻機(jī)，ASML簡直壟斷�。�

國際上的最先進(jìn)水平

國際上呢！最先進(jìn)的水平當(dāng)然是ASML的，目前能夠?qū)崿F(xiàn)量產(chǎn)的是5nm的光刻機(jī)，在2018年所有的中高端量產(chǎn)芯片的光刻機(jī)里面，ASML壟斷了差不多90%以上的市場，各位朋友可以想一想這是什么樣的地位？

中國目前光刻機(jī)什么水平

中國目前能夠?qū)崿F(xiàn)量產(chǎn)芯片光刻機(jī)的公司是上海微電子設(shè)備系統(tǒng)有限公司！目前能夠量產(chǎn)的是90nm的光刻機(jī)，65nm的光刻機(jī)已經(jīng)在研發(fā)了四五年了，目前尚未處于量產(chǎn)階段！前一階段，上海微電子設(shè)備已經(jīng)在28納米商用前道光刻機(jī)的研發(fā)上取得了重大的進(jìn)展，但是中國在光刻機(jī)之路上還有很遠(yuǎn)的路要走啊，我們這些微電子人真的要好好努力加油了！

國內(nèi)其他能量產(chǎn)光刻機(jī)的公司有以下幾家：

合肥芯碩半導(dǎo)體有限公司（200nm）

先騰光電科技有限公司（800nm）

中子科技集團(tuán)公司第四十五研究所國電（1500nm）

當(dāng)然中國也在一些零部件上取得了很大的突破：

比如，2016年初，光刻機(jī)核心子系統(tǒng)雙工件臺系統(tǒng)樣機(jī)研發(fā)項目通過內(nèi)部驗收，為國內(nèi)65nm到28nm光刻機(jī)自主研發(fā)奠定了基礎(chǔ)！

2017年6月21日，“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”通過驗收。將國內(nèi)自主研發(fā)EUV光刻機(jī)技術(shù)向前推進(jìn)了重要的一步！

2019年，武漢光電中心的甘棕松團(tuán)隊在研究第六代光刻機(jī)，利用二束激光在國產(chǎn)光刻機(jī)上突破了光束衍射極限的限制，刻出了最小9nm，這個技術(shù)擁有完全自主產(chǎn)權(quán)。

個人的一些觀點

雖然中國在一些重要的零部件上取得了重要的進(jìn)展，但是不能因為取得了一點點的成績就開始各種浮夸的宣傳，制造很多假象，感覺中國光刻機(jī)好像一下子要跨越十幾年似的，往往很多浮夸的宣傳都是為了獲得更多的國家經(jīng)費，比如像漢芯事件，一下子拿捏住中國在科技領(lǐng)域急需發(fā)展的命門，一下子獲得了國家了10億+的經(jīng)費，難道后來打臉打的不疼嗎？科技不是一下子能發(fā)展起來的！不是靠各種浮夸的宣傳能夠做到的！真的是需要幾代人靜下心，一點一點積累在科技方面的優(yōu)勢！

對于光刻機(jī)，漫天的新聞都在說，取得了一點點的成績，某些關(guān)鍵零部件取得了突破就開始漫天的宣傳，如果真的能夠?qū)崿F(xiàn)量產(chǎn)，現(xiàn)在還會受到當(dāng)前這種科技形勢的限制？2018年中芯國際還需要花1億多歐元去購買ASML 7nm的光刻機(jī)？該醒醒了，我們還有很坎坷的路要走！必須正視當(dāng)前的困難，才能夠解決克服困難！相信未來中國肯定是科技強(qiáng)國！

首先，我國很早就開始了光刻機(jī)的研制，在上世紀(jì)70年代，清華大學(xué)與中科院合作進(jìn)行光刻機(jī)的研發(fā)，在1985年就研制成功了一臺g線分步投影光刻機(jī)，這比國外同類產(chǎn)品僅僅晚了6年。2002年我國成立了上海微電子裝備有限公司(SMEE)，其研發(fā)團(tuán)隊主要來自中科院45所，目前為止，這也是我國僅有的一家光刻機(jī)研發(fā)單位。從今年發(fā)展來看，SMEE雖取得了很大成績，但整體技術(shù)水平還是落后于西方發(fā)達(dá)國家。

光刻機(jī)的研制技術(shù)難點主要是解決精密度問題，光刻的原理就像在米粒大小的面積上，雕刻納米級大小的文字，其難度可想而知，所以這需要持續(xù)的研發(fā)和技術(shù)攻關(guān)。此外，我國光刻機(jī)的研發(fā)還面臨資金和人才的調(diào)整。研發(fā)光刻機(jī)這種高精尖設(shè)備投入大、投資回報時間長，民營企業(yè)出于發(fā)展目的，很少會主動投入光刻機(jī)的研發(fā)，所以這需要國家進(jìn)行投資和組織，從國外發(fā)展來看，英特爾、臺積電、三星為推進(jìn)光刻機(jī)的研發(fā)，都是持續(xù)投入巨資，比如三星以38億歐元購買ASML23%的股份支持其EUV光刻機(jī)的研發(fā)，可以說是不計成本，也由此奠定了他們在光刻機(jī)領(lǐng)域的地位。

與國外相比，我國缺少光刻機(jī)相關(guān)配套產(chǎn)業(yè)，而且由于西方國家的技術(shù)封鎖，幾乎不可能從國外獲得技術(shù)支持，所以，我國光刻機(jī)的發(fā)展只能來源于自主研發(fā)，而光刻機(jī)研發(fā)人員的培養(yǎng)難度較大、培養(yǎng)周期長、人才流失嚴(yán)重，這些都大大制約了我國光刻機(jī)的發(fā)展。

其實總體來看，發(fā)展光刻機(jī)取決于國家的決心，過去，我們可以很容易買到國外芯片，而且自主研發(fā)投入大、風(fēng)險高，這造成了我們國家很多人產(chǎn)生了“造不如買”的觀點，但隨著中美貿(mào)易戰(zhàn)的加劇，美國開始對中國進(jìn)行技術(shù)防范，比如“中芯事件”，對華為的各種制裁，這些事件終于使國內(nèi)企業(yè)醒悟過來，不發(fā)展光刻機(jī)，中國永遠(yuǎn)把自身的命脈放在別人手里，國家工業(yè)將永遠(yuǎn)徘徊低端產(chǎn)業(yè)，所以，發(fā)展光刻機(jī)已經(jīng)刻不容緩。

感謝您的閱讀！

你可能想象不到，我國竟然研制出了9nm工藝制程的光刻機(jī)，要知道現(xiàn)在最受大家關(guān)注的是90nm上海微電子的光刻機(jī)，而如今出現(xiàn)了9nm光刻機(jī)，著實令我們感覺到有些驚喜。

2019年4月15日，武漢光電國家研究中心甘棕松團(tuán)隊，通過使用了二束激光在自研的光刻膠上突破了光束衍射極限的限制，在使用了遠(yuǎn)場光學(xué)的辦法，光刻出最小9nm線寬的線段，實現(xiàn)了從超分辨成像到超衍射極限光刻制造的重大創(chuàng)新。

你可能覺得不可思議，事實上，這件事的可行性和可信性確實讓人感覺到有些驚訝，但事實確實如此，雖然光刻機(jī)并沒有完全的付諸于實施，可是你得知道的是，光刻機(jī)未來一定會被打破。

雖然，ASML目前已經(jīng)可以生氣7nm EUV光刻技術(shù)，相比之下，國內(nèi)目前最好的上海微電子最好為90nm的光刻技術(shù)，這種差異確實有點偏大，但是，你得知道的是這種差異的變化，正是說明了我們急需對于光刻技術(shù)的需求。

如果光刻機(jī)不能夠?qū)嵭匈|(zhì)的飛躍，勢必給未來的光刻技術(shù)帶來一種新的挑戰(zhàn)，在《瓦森納協(xié)議》的壓力下，國產(chǎn)光刻機(jī)確實會讓光刻機(jī)充滿了壓力，而武漢方面的突破，必然會給光刻機(jī)的未來增加無限可能。

沒錢還花唄借唄怎么辦，高價賣手機(jī)，就來「微回收」，回收成功還有豪禮相送！

芯片制造業(yè)兩大至關(guān)重要的技術(shù),蝕刻機(jī)和光刻機(jī),在蝕刻機(jī)上我國已經(jīng)攻克5nm技術(shù)，與歐美差距進(jìn)一步縮小，但是在光刻機(jī)上，全世界只有荷蘭的 ASML 能夠制造頂級的光刻機(jī)。中國自主研發(fā)出世界首臺超分辨光刻機(jī)，才達(dá)到了22納米。

本來，中芯國際花了1.2億美元向ASML訂購了EUV，預(yù)計將在2019年年初交貨。但是ASML突然失火，交貨日期遙遙無期。

如果要發(fā)展光刻機(jī)，核心硬件這個還需要加大力度攻克，另外就是需要專業(yè)的人才，而這兩個方面，目前我們都急缺，我們?nèi)狈ρ芯抗饪虣C(jī)的高精尖人才。

另外最重要的是，光刻機(jī)這種東西，往往花費十幾年投入，都沒有一個響。屬于高投入低產(chǎn)出的，如果沒有國家投入支持，很少民營企業(yè)能夠撐得起這么高的研發(fā)費用，關(guān)鍵還耐得住性子，十幾年沒有收益還能繼續(xù)投入。

但是不管怎么樣，我們國家的光刻機(jī)在持續(xù)進(jìn)步，也讓我們拭目以待。

其實，這是個值得探討的問題。為何我們一直產(chǎn)不出自己的CPU，為何高端芯片我們都要靠進(jìn)口。根本原因在于，我們?nèi)狈�這方面的人才和技術(shù)支持。

就算有了光刻機(jī)，估計我們還是無法生產(chǎn)出一顆像樣的處理器。落后那么多年，可以這樣比喻，因特爾或AMD目前是教授，而我們還是小學(xué)生，而且有美國干預(yù)我們購買光刻機(jī)，買過來，研究它的生產(chǎn)原理估計都要5-10年�，F(xiàn)在我們不缺錢，但是缺技術(shù)，以前我們不缺人才，但是我們沒錢。倘若30年前，我們就開始培養(yǎng)這方面的人才，或者投入研發(fā)，或許，不會是現(xiàn)在這樣。

計算機(jī)的心臟(CPU)，高端芯片，仍然要靠進(jìn)口，這是我們的痛處，相信多年后，我們能有自己的相關(guān)產(chǎn)品，吊打因特爾。就像AMD吊打因特爾那樣……

光刻機(jī)是中國科技界的一個痛點，總所周知，中國每年從外國進(jìn)口芯片的花的錢比進(jìn)口石油花的錢還多。

光刻機(jī)作為制造芯片的核心設(shè)備，我們和外國差距還是很大的。華為的麒麟系列芯片，雖然已經(jīng)步入中高端市場，但也主要是有臺積電代工，而所有的代工廠商基本是購買光刻機(jī)來進(jìn)行量產(chǎn)芯片目前全球能夠代工高端芯片的廠家只有三星以及臺積電，而中芯國際還中端偏高端的一個階段。在代工領(lǐng)域中臺積電屬于領(lǐng)先者。

世界光刻機(jī)的水平高，產(chǎn)量低，且技術(shù)封鎖

但是目前最先進(jìn)的7nm和5nm制程來說，只有阿斯麥的EUV光刻機(jī)才能達(dá)到，踏實世界最先進(jìn)的光刻機(jī)，售價也不菲一臺就需要1億美元以上，而且產(chǎn)量極低，由于高端光刻機(jī)成本和制造工藝的復(fù)雜程度相當(dāng)高，阿斯麥訂單不斷，而每年只能產(chǎn)出幾十臺。我們國家預(yù)定的這種光刻機(jī)由于美國的阻撓，差不多也泡湯了。那么我們?yōu)槭裁丛觳怀瞿�？主要有一下原�?/p>

技術(shù)系統(tǒng)性強(qiáng)且極度復(fù)雜

ASML總裁Peter Wennink也在媒體上方言：高端的EUV光刻機(jī)永遠(yuǎn)不可能（被中國）模仿。

“因為我們是系統(tǒng)集成商，我們將數(shù)百家公司的技術(shù)整合在一起，為客戶服務(wù)。這種機(jī)器有80000個零件，其中許多零件非常復(fù)雜。以蔡司公司為例，為我們生產(chǎn)鏡頭，各種反光鏡和其他光學(xué)部件，世界上沒有一家公司能模仿他們。此外，我們的機(jī)器完全裝有傳感器，一旦檢測到有異常情況發(fā)生，Veldhoven總部就會響起警報�！�

投入周期很長，見效慢

光刻機(jī)是典型到極致的高風(fēng)險、高投入的賽道，前期的投入很高收益很慢，有時候身體要貼錢投入。從下圖可以看出，從ASML的研發(fā)投入基本達(dá)到15%以上，有時候全年負(fù)增長也是常態(tài)。

有消息稱：阿斯麥在光刻機(jī)技術(shù)上投入的時間是27年。直到發(fā)明出EUV光刻機(jī)才開始盈利！而國內(nèi)的企業(yè)風(fēng)氣追求快速的效益和利潤，比如房地產(chǎn)、游戲、各種互聯(lián)網(wǎng)公司、一些金融機(jī)構(gòu)等，都是為了快速的圈錢，缺少像華為那樣踏踏實實研發(fā)的公司，所以沒有人愿意投入資金去冒險。

國內(nèi)很多企業(yè)也在奮力追趕，已初步見效

最近上海微電子公司打破封鎖，研發(fā)出22nm光刻機(jī)，這也是我國在光刻機(jī)領(lǐng)域的先進(jìn)水平，雖在進(jìn)步但離國外先進(jìn)技術(shù)差距還很大。現(xiàn)在已經(jīng)有很多企業(yè)格力，小米等都愿意投入資金去研制光刻機(jī)。希望我們能夠盡快的用到自己的光刻機(jī)，擺脫對別人的依賴

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)；有用于封裝的光刻機(jī)；還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。

用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口，本次廈門企業(yè)從荷蘭進(jìn)口的光刻機(jī)就是用于芯片生產(chǎn)的設(shè)備。

在加工芯片的過程中，光刻機(jī)通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。

一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經(jīng)過一次光刻的芯片可以繼續(xù)涂膠、曝光。越復(fù)雜的芯片，線路圖的層數(shù)越多，也需要更精密的曝光控制過程。

光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高，可以說是集人類智慧大成的產(chǎn)物。

我國的光刻機(jī)技術(shù)仍然處于低端水平，上海微電子的光刻機(jī)代表我國光刻機(jī)的最高水平，制程工藝為90nm，而荷蘭ASML的光刻機(jī)已經(jīng)進(jìn)入5nm的制程工藝，我國的高端光刻機(jī)全部依靠進(jìn)口。

目前，全球光刻機(jī)領(lǐng)域的龍頭老大是荷蘭的ASML，占領(lǐng)了80%的市場，日本的尼康和佳能已經(jīng)被ASML完全擊敗。最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，只有ASML能夠生產(chǎn)。大家所使用的手機(jī)的處理器、電腦的CPU，大部分是ASML的光刻機(jī)制造出來的。

ASML的光刻機(jī)超過90%的零件向外采購，整個設(shè)備采用了全世界上最先進(jìn)的技術(shù)，是多個國家共同努力的結(jié)果，比如德國的光學(xué)設(shè)備和精密機(jī)械，美國的計量設(shè)備和光源設(shè)備。一臺7nm EUV光刻機(jī)包含了5萬多個零件，13個系統(tǒng)，需要把誤差分散到這個13個子系統(tǒng)中，所以每個配件必須得非常精準(zhǔn)。

最關(guān)鍵的是生產(chǎn)光刻機(jī)所需的關(guān)鍵零件，對我國是禁運的，所以制約了我國光刻機(jī)技術(shù)的發(fā)展。

ASML的7nm EUV光刻機(jī)已經(jīng)非常成熟，華為的麒麟980處理器、蘋果的A12處理器、高通的驍龍855處理器均是有臺積電代工使用ASML的7nm 光刻機(jī)生產(chǎn)的。據(jù)說，ASML已經(jīng)開始生產(chǎn)5nm制程的光刻機(jī)。

總之，相比德國、日本、美國我國的芯片制造以及超精密的機(jī)械制造方面有一定的差距，同時國外對我國的“技術(shù)封鎖”，關(guān)鍵零件“禁運”相比ASML最新的EUV 7nm光刻機(jī)，我國的光刻機(jī)仍然有很大的差距。

我國光刻機(jī)最近幾年整體的發(fā)展還是可以的，雖然在高端領(lǐng)域和荷蘭ASML差距還是相當(dāng)大的，但是我們正在迎頭趕上，只要這個發(fā)展的進(jìn)程不中段，以及相關(guān)科學(xué)領(lǐng)域的持續(xù)突破，必然縮小差距和追趕上。

上海微電子已經(jīng)在研發(fā)28nm工藝光刻機(jī)

上海微電子是目前國內(nèi)光刻機(jī)領(lǐng)域最領(lǐng)先的系統(tǒng)制造商，很多人提起這家公司或許都會說它們只能量產(chǎn)90nm的工藝的光刻機(jī)，但這并非上海微電子當(dāng)前真正的研發(fā)進(jìn)度。

最新消息顯示上海微電子已經(jīng)完成了65nm光刻機(jī)研發(fā)，且已經(jīng)進(jìn)入設(shè)備驗證階段，如果不出意外的話這2年應(yīng)該能量產(chǎn)65nm。既然已經(jīng)搞定了65nm光刻機(jī)，下一代的28nm光刻機(jī)研發(fā)工作也已經(jīng)在進(jìn)行中。

因此，未來幾年內(nèi)如果順利的話，我們或許能用上國產(chǎn)28nm光刻機(jī)。

光刻機(jī)研發(fā)不僅僅靠上海微電子

上海微電子雖然是研發(fā)光刻機(jī)的主力，但是一臺光刻機(jī)涉及到幾萬的配件，僅僅靠上海微電子顯然也是無法制造出合格的高端產(chǎn)品，想要盡快提升我國的光刻機(jī)整體水平，還需要整個產(chǎn)業(yè)鏈的努力。類似光柵、鏡頭、閥件等光刻機(jī)的核心配件廠商同樣需要提升自身的水平，而這就涉及到制造業(yè)的技術(shù)水平了。

目前來看，配件廠商的差距和國外企業(yè)相差較大，此前上海微電子總經(jīng)理曾經(jīng)舉個一個例子，德國人這邊生產(chǎn)的鏡片拋光都是純?nèi)斯ぃ�而這種工種的工人祖孫三代都做相同的工作，這種模式生產(chǎn)出來的鏡片光潔度要比其他方式生產(chǎn)的強(qiáng)十倍。

這就是差距，國內(nèi)很難實現(xiàn)類似的生產(chǎn)模式。

上海微電子有哪些用途的光刻機(jī)

上海微電子目前的光刻機(jī)產(chǎn)品包括前道光刻機(jī)、后道封裝光刻機(jī)、平板顯示光刻機(jī)、LED光刻機(jī)等，而大家所稱的90nm光刻機(jī)指的是前道光刻機(jī)，目前后道封裝光刻機(jī)上海微電子占據(jù)國內(nèi)80%的市場份額，全球市場份額40%左右，LED光刻機(jī)市占率為20%。

如果放眼全球光刻機(jī)市場，荷蘭ASML占據(jù)高端領(lǐng)域，全球份額達(dá)到了8成，剩下2成的中低端市場主要由上海微電子和日本的佳能、尼康來瓜分。

Lscssh科技官觀點：

以上就是我國光刻機(jī)的現(xiàn)狀，和荷蘭ASML高端光刻機(jī)差距還是很大，但我們正在不斷的追趕中，相信未來我們還是能趕上的。

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