2021年，上海微電子交付28nm光刻機(jī)，我國主流的半導(dǎo)體芯片可以實(shí)現(xiàn)“自主可控”，利用雙工作臺進(jìn)行多次曝光的原理，有生產(chǎn)7nm制程的潛力，將在短時間內(nèi)解決國產(chǎn)芯片的制造難題。

    28nm光刻機(jī)是否靠譜？

    2021年，上海微電子交付28nm光刻機(jī)是否靠譜呢？畢竟上海微當(dāng)前最先進(jìn)的光刻機(jī)是90nm，2007年實(shí)現(xiàn)了交付，時隔13年，才實(shí)現(xiàn)了28nm工藝，是什么原因造成的呢？

    首先要說清楚的是，上海微電子也僅僅是系統(tǒng)集成商，關(guān)鍵零部件來自于外來，而不是自己生產(chǎn)。荷蘭ASML最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，90%的關(guān)鍵零部件來自于外來，美國的計量設(shè)備和光源、德國的鏡頭和精密儀器、瑞典的軸承等等，最麻煩的是這些精密儀器和配件對我國是禁運(yùn)的。也就是說，上海微電子要造出28nm光刻機(jī)，只能等待國內(nèi)供應(yīng)鏈的成熟。

    目前，中微半導(dǎo)體推出了5nm制程蝕刻機(jī)，ArF光刻膠實(shí)現(xiàn)了國產(chǎn)化，北京科益虹源光電突破了關(guān)鍵的光源系統(tǒng)，國望光學(xué)突破了鏡頭工藝，華卓精科突破了浸入式雙工作臺等等，上海微電子負(fù)責(zé)控制系統(tǒng)和總裝。

與荷蘭ASML的差距

    目前，荷蘭ASML最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，可以生產(chǎn)5nm制程工藝的芯片，下半年發(fā)布的麒麟1020處理器、蘋果A14、驍龍875處理器將會采用5nm制程工藝，進(jìn)一步提升了手機(jī)處理器的性能，并且降低了功耗。上海微電子的28nm光刻機(jī)，至少還有10多年的差距，而這么大的差距，短時間也是無法彌補(bǔ)的。

    原因1：西方國家有一個《瓦森納協(xié)定》，最先進(jìn)、最尖端的技術(shù)對我國是禁運(yùn)的，最先進(jìn)的光刻機(jī)集成了全球最先進(jìn)的技術(shù)，由于受到了技術(shù)封鎖，我國無法進(jìn)口這些設(shè)備和技術(shù)。

    原因2：像高端的EUV光刻機(jī)，我們是很難模仿的，荷蘭ASML將數(shù)百家公司的技術(shù)整合在一起，有80000多個零件，非常復(fù)雜。不僅如此，來自德國蔡司的鏡頭是專門為ASML生產(chǎn)的，世界上沒有一個國家的公司可以模仿，而且EUV光刻機(jī)裝有傳感器，一旦檢測到異常發(fā)生，就會響起警報。

    總之，上海微電子雖然突破了28nm制程工藝，然而距離荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)還有很大的差距。雖然，我國有強(qiáng)大的制造業(yè)，模仿能力也超強(qiáng)，然而在技術(shù)經(jīng)驗積累、人才儲備、配套零部件方面還遠(yuǎn)遠(yuǎn)不足。

如果覺得對你有幫助，可以多多點(diǎn)贊哦，也可以隨手點(diǎn)個關(guān)注哦，謝謝。

現(xiàn)在電子產(chǎn)品的芯片制程已經(jīng)達(dá)到了10納米，7納米正在向著5納米和3納米制程工藝進(jìn)發(fā)。目前世界電子產(chǎn)品界對極紫外EUV光刻機(jī)需求較大，而對深紫外DUV光刻機(jī)的需求沒那么大。說句不好聽的話28納米工藝制程已經(jīng)落后了，因為它是2011年時的技術(shù)，距今已經(jīng)過去了9年。即便是上海微電子將于2021年交付制程為28納米的光刻機(jī)，那對制程工藝要求苛刻的電子產(chǎn)品來說影響也不大。

因為芯片的制程工藝越小，就意味著其功耗越低，性能越強(qiáng)，散熱能力越強(qiáng)。就拿高通驍龍855和845處理器來說，高通驍龍855處理器采用的是7納米制程工藝，而高通驍龍845采用的是10納米制程工藝，但是855處理器的性能要比845強(qiáng)了45%，圖形處理上強(qiáng)了20%。除了設(shè)計帶來的性能提升外，其他就全靠制程工藝了。所以說，電子產(chǎn)品對制程工藝的追求是無止境的，越低越好。

或許，國產(chǎn)28納米制程的光刻機(jī)對電子產(chǎn)品沒有影響，但是對于其他對制程工藝要求不高的行業(yè)影響還是挺大的。如:國防工業(yè)，運(yùn)營商基站芯片，工業(yè)芯片，超級計算機(jī)。只要有了28納米制程工藝的光刻機(jī)，那么國內(nèi)以上這些行業(yè)所需要的芯片就不會受制于人，完全可以實(shí)現(xiàn)獨(dú)立自主。當(dāng)然除了實(shí)現(xiàn)獨(dú)立自主之外，還可以將以上行業(yè)芯片的性能提高一個級別。由此可知，量產(chǎn)28納米制程工藝的芯片，對國內(nèi)的制造業(yè)，國防工業(yè)有著重大的意義。雖說在商業(yè)應(yīng)用上被國外卡脖子，但是涉及到重要的國防工業(yè)，重工業(yè)可以做到獨(dú)立自主已經(jīng)不錯了。

在國外制裁的今天，國產(chǎn)28納米制程工藝的DUV光刻機(jī)的部件全部是國產(chǎn)的。其重要的鏡頭組來自于國望光學(xué)，掩膜臺應(yīng)該來自國內(nèi)哪個企業(yè)還不清楚，不過清華大學(xué)在2014年就制造出了工件臺樣機(jī)，并且指標(biāo)實(shí)測達(dá)到MA2.2納米，MSD4.5納米，我國也是世界上第二個，掌握該技術(shù)的國家。在7年之后的2021年，國產(chǎn)工件臺的精度在上一個臺階也沒有大問題。說到DUV光源技術(shù)，我國稱第二，沒有哪個國家敢稱第一。畢竟KBBF晶體的技術(shù)領(lǐng)先國際1-2代，制造出合適的光源也不存在難題。在光刻機(jī)三大重要部件都突破后，制造出28納米制程工藝的光刻機(jī)也就順理成章了，可以說，在11納米制程工藝之前的技術(shù)，國內(nèi)都不會被卡脖子了。

要知道，米國可以為了一己之利，全力制裁一個企業(yè)，這就讓世界各國看清楚了米國的面具下藏的真實(shí)意圖。我國在28納米制程光刻機(jī)突破后，完全可以對外出售到那些害怕被制裁的國家，以打出光刻機(jī)出口的一個突破口。趁著全球各主要強(qiáng)國在產(chǎn)業(yè)上去美國化的進(jìn)程，加緊研發(fā)更先進(jìn)的光刻機(jī)，以實(shí)現(xiàn)對外出口。總體而言，國產(chǎn)28納米制程工藝的光刻機(jī)，對現(xiàn)有的電子產(chǎn)品領(lǐng)域造不成什么影響，但是對于國內(nèi)相關(guān)企業(yè)的意義是十分重大的。

這可以用里程碑來看，拿一個歷史事件來比就是孟良崮戰(zhàn)役，這是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)科技的孟良崮戰(zhàn)役。孟良崮戰(zhàn)役標(biāo)志著國民黨軍的核心主力之一被消滅了。中國28納米光刻機(jī)交付標(biāo)志著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的一個核心技術(shù)的突破，這個突破雖然離中國掌握最高端的光刻機(jī)EUV這種5納米，3納米光刻機(jī)還有距離，但是離突破最高端的光刻機(jī)時間不遠(yuǎn)了，因為這種技術(shù)的核心工程問題已經(jīng)解決了。

感謝您的閱讀！

【中國28nm光刻機(jī)明年交付？會不會讓我們擺脫西方技術(shù)對我們的束縛？】

這個消息內(nèi)容是——上海微電子裝備股份有限公司，宣布將在2021年至2022年交付國產(chǎn)第一臺28nm的immersion式光刻機(jī)。你可能覺得ASML的7nm EUV已經(jīng)退出這么久了，怎么上海微電子才推出28nm工藝呢？有什么可以驕傲的呢？

實(shí)際上，我們必須知道的是，雖然和荷蘭ASML的28nm工藝有一段距離，但是你必須知道的是，上海微電子目前正在銷售的是90nm工藝制程。因此，你可以知道的是從90nm到28nm這一段路程確實(shí)非常的艱難。

而上海微電子的封裝光刻機(jī)技術(shù)，現(xiàn)在已經(jīng)成為封測龍頭企業(yè)的重要供應(yīng)商，并且在國內(nèi)市場占有率高達(dá)80%，更是在全球市場占有率達(dá)40%。因此，在國內(nèi)光刻機(jī)領(lǐng)域，它是重要的一環(huán)。

但是，我們必須要知道的是，我們現(xiàn)在雖然已經(jīng)突破了28nm工藝，可是別高興的過早。因為，我們現(xiàn)在的28nm工藝制程和ASML的7nm EUV的差異還是很大的。

雖然有消息稱，通過技術(shù)能夠讓它能夠?qū)崿F(xiàn)7nm工藝制程，但是必須知道的是，這種差異性確實(shí)目前還會有制約。

ASML為何獨(dú)樹一幟？這種情況是多方面造成的。我們知道ASML實(shí)際上因為多種因素獲得的成功——

1.它將多家企業(yè)作為它的股東，獲得了資金的投入，同樣也獲得了更為先進(jìn)的技術(shù)。比如英特爾，三星，臺積電都是ASML的股東，因此它們的支持，能夠讓ASML帶來更強(qiáng)的資金方面的優(yōu)勢。

2.它使用了多家技術(shù)的合集，在它身上有8萬多個零部件，來自全球多家公司，比如說德國的鏡頭，美國的光源，這些技術(shù)確實(shí)讓他成就了獨(dú)一無二的ASML。

同樣因為【瓦納森協(xié)議】的束縛，我們在技術(shù)發(fā)展中心也受到一定的限制，這種限制確實(shí)對于我們整體的發(fā)展，特別是光刻機(jī)的發(fā)展，產(chǎn)生了極為重要的影響，也束縛了我們在光刻機(jī)方面的進(jìn)步。但是，上海微電子的28nm工藝，實(shí)際上給了我們更多的機(jī)會打破束縛，為未來我們技術(shù)的進(jìn)步，以及打破西方的禁錮，提供了非常好的機(jī)會。

一直以來芯片都是制約我國先進(jìn)制造業(yè)發(fā)展的一個重要瓶頸，因為目前我國自己沒法生產(chǎn)出高端的芯片，而我國之所以沒法自己生產(chǎn)高端芯片，因為我們沒有高端的光刻機(jī)。

2019年之前我國自主研發(fā)的光刻機(jī)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)并量產(chǎn)的只有90納米，45納米以上的光刻機(jī)還處于實(shí)驗或者研究階段。

不過最近一段時間我國傳出了好消息，由上海微電子自主研發(fā)的28納米工藝沉浸式光刻機(jī)目前已經(jīng)取得了突破，預(yù)計在2021年到2022年將交付第1臺機(jī)器。

我國光刻機(jī)技術(shù)直接從90納米工藝越過45納米，直接跳到28納米，這個進(jìn)步確實(shí)是非常明顯的。

不過28nm光刻機(jī)跟目前全球最頂尖的7nmEUV光刻機(jī)仍然有很大的差距，基于7nmEUV光刻機(jī)，目前臺積電已經(jīng)開始量產(chǎn)5納米的芯片了，所以即便我國研發(fā)出28納米的光刻機(jī)，但短期之內(nèi)想要解決7納米以上的芯片難度仍然是非常大的，未來我國7納米以上芯片仍然嚴(yán)重依賴進(jìn)口。

但我國研發(fā)出的28納米光刻機(jī)，我個人認(rèn)為對電子產(chǎn)品市場會有一定的影響，只是影響不會太大。

我國作為全球芯片消費(fèi)最大的國家之一，每年有大量的芯片都依賴進(jìn)口，比如2019年一年我們進(jìn)口的芯片就達(dá)到2萬億人民幣以上，在這些芯片當(dāng)中既包括高端的芯片，也包括了一些中低端芯片。

假如未來我國28納米光刻機(jī)正式投產(chǎn)了，那么我國芯片產(chǎn)能將會大幅得到提升，而且能夠自主生產(chǎn)的不僅僅是28納米的芯片，還有可能包括更高工藝的芯片。

雖然28納米光刻機(jī)跟目前ASML7納米光科技仍然有很大的差距，但是28納米的光刻機(jī)通過工藝上的改進(jìn)，并通過多重曝光之后，是可以生產(chǎn)出比28納米更高工藝的芯片的，配合工藝改進(jìn)，28納米的光刻機(jī)可以用來生產(chǎn)14納米、12納米甚至是7納米的芯片。

假如未來基于28納米光刻機(jī)能生產(chǎn)出10納米以上的高端芯片，那么我國就可以減少對芯片的進(jìn)口依賴，這樣我國生產(chǎn)的一些電子產(chǎn)品成本就有可能出現(xiàn)下降。

畢竟對于各種電子產(chǎn)品來說，芯片的成本是比較高的，如果芯片的生產(chǎn)成本降低了，那么電子產(chǎn)品的整機(jī)價格也會跟著下降，這對于整個電子產(chǎn)品來說無疑會產(chǎn)生一定影響。

不過目前全球的電子產(chǎn)品朝著越來越高端化發(fā)展，電子產(chǎn)品所使用的芯片工藝越來越高，特別是對于手機(jī)這些更新?lián)Q代比較快的電子產(chǎn)品來說，我國生產(chǎn)出的28納米光刻機(jī)其實(shí)不會有太大的影響。

因為對于各大電子廠商來說，他們想要維持市場的競爭力，就必須使用最先進(jìn)的芯片工藝，特別是對于頭部手機(jī)廠家來說，想要維持市場競爭力，他們每年都會推出新的旗艦機(jī)，而這些旗艦機(jī)所搭載的都是當(dāng)前最先進(jìn)的芯片工藝。

而目前全球已經(jīng)實(shí)現(xiàn)5納米芯片的量產(chǎn)，未來幾年3納米甚至2納米芯片都有可能量產(chǎn)。

在這種背景之下，即便我國生產(chǎn)出28納米的光刻機(jī)了，但是跟國際頂尖的芯片水平仍然有很大的差距，所以我國芯片還有很長的路要走。

但是我國能夠從90納米光刻機(jī)直接突破到28納米，這是一個非常明顯的進(jìn)步，我相信按照目前我國對芯片的投入以及各大企業(yè)對芯片的重視程度，未來我國光刻機(jī)研究肯定會取得更大的進(jìn)步。

我國28nm光刻機(jī)一旦下線量產(chǎn)，對我們的芯片制造產(chǎn)業(yè)會帶來巨大影響，而我們半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展必將影響整個世界半導(dǎo)體行業(yè)的走向。

28nm光刻機(jī)可以做什么？

很多人可能以為28nm光刻機(jī)可能只能做28nm的芯片，事實(shí)上這種理解是完全錯誤的。28nm的光刻機(jī)通過多重曝光是可以實(shí)現(xiàn)更先進(jìn)制程芯片的生產(chǎn)制造，除了28nm芯片外，也可用來生產(chǎn)14nm、12nm，10nm等芯片。如果有更好的套件精度，通過多重曝光甚至可以實(shí)現(xiàn)7nm制程芯片生產(chǎn)。

當(dāng)年臺積電最初的7nm制程芯片也是使用多重曝光技術(shù)來實(shí)現(xiàn)的，真正的7nm EUV光刻機(jī)其實(shí)是用來生產(chǎn)5nm、3nm這類更先進(jìn)制程的芯片。

因此，有了28nm光刻機(jī)，我們理論上可以實(shí)現(xiàn)7nm芯片制程的生產(chǎn)。這個制程已經(jīng)可以滿足華為麒麟980、990這樣高端芯片的生產(chǎn)需求了。

僅有光刻機(jī)不行，還需代工技術(shù)！

但是，我們僅有先進(jìn)的光刻機(jī)其實(shí)還不行，在代工技術(shù)上我們?nèi)孕枰�提高。同樣的光刻機(jī)在臺積電手里可以實(shí)現(xiàn)7nm制程芯片，而在中芯這邊就只能是14nm制程，在代工技術(shù)上我們?nèi)耘f有不小的差距，需要中芯等代工廠商努力提高。

現(xiàn)階段中芯研發(fā)出的最先進(jìn)制程達(dá)到了N+2，實(shí)際可以達(dá)到7nm高性能版要求，未來或許可以配合國產(chǎn)的光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。

將對世界產(chǎn)生多大的影響？

光刻機(jī)和代工技術(shù)的發(fā)展必定會推動我們整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，因為從此基本解決了我國大部分芯片的生產(chǎn)問題。

現(xiàn)在7nm制程以下的高端芯片需求量看似很大，但是放眼整個芯片產(chǎn)業(yè)，那就是極少一部分，僅僅是手機(jī)上需要，包括AMD電腦芯片，剩下大部分產(chǎn)業(yè)可以用10nm、12nm、14nm，28nm，甚至是65nm芯片都能用。

這種情況下，我們就能做到自給自足，同時還能對外搶占中端市場，未來在光刻機(jī)領(lǐng)域或許就只有中荷兩國競爭了，日系廠商基本處于被淘汰邊緣了。

一旦我們的芯片能完全自主生產(chǎn)，華為這樣的企業(yè)就再也不用擔(dān)心被斷供的問題，可以放心大膽的在前面沖鋒陷陣。

Lscssh科技官觀點(diǎn)：

28nm光刻機(jī)如果能準(zhǔn)時量產(chǎn)那我們和荷蘭ASML的差距又縮小了，基本可以上超過了日系廠商，同時這也將促進(jìn)國產(chǎn)芯片在高端領(lǐng)域的高速發(fā)展，未來將徹底擺脫只能在低端或者下游領(lǐng)域混飯吃的局面，從此逆襲走向新發(fā)展之路。當(dāng)然，我們還是得認(rèn)清和荷蘭ASML的差距，10年之內(nèi)應(yīng)該仍舊追不上人家。

感謝閱讀，給點(diǎn)個贊鼓勵下唄，歡迎關(guān)注【Lscssh科技官】，謝謝~~

中國28nm光刻機(jī)意義重大，表現(xiàn)在以下幾個方面：

第一28nm光刻機(jī)只是開始，但是我們邁出第一步，就會有第二步。幾年前，我國光刻機(jī)只處于90nm的技術(shù)范圍，而現(xiàn)如今已經(jīng)實(shí)現(xiàn)較大的突破。也許未來一二年速度更快，技術(shù)更好。達(dá)到國際先進(jìn)水平甚至超越都有可能!

第二位，很多人認(rèn)為28nm光刻機(jī)只能生產(chǎn)28nm的芯片，其實(shí)這種理解是完全錯誤的。28nm的光刻機(jī)通過多重曝光，就能實(shí)現(xiàn)更為先進(jìn)的制程芯片的生產(chǎn)制造，不僅能生產(chǎn)28nm芯片外，經(jīng)過多重曝光就能生產(chǎn)14nm、12nm，10nm等芯片。

如果有了更好的配套設(shè)施，通過多重曝光甚至可以實(shí)現(xiàn)7nm制程芯片生產(chǎn)。但是這個過程相比先進(jìn)的光刻機(jī)比較繁瑣，也確實(shí)不如臺積電的設(shè)備。

第三，在2004年以前我們沒有刻蝕機(jī)，后來中微半導(dǎo)體成立了，由歸國博士尹志堯創(chuàng)建，他帶領(lǐng)團(tuán)隊把刻蝕機(jī)從65nm做到現(xiàn)在的5nm，一直保持在世界領(lǐng)先水平。光刻機(jī)也會像刻蝕機(jī)一樣，我們的速度會越來越快。

最后，其實(shí)對于科技的發(fā)展，我們從未被卡住過脖子，原子彈，氫彈，衛(wèi)星，航空航天，航母等等。只要我們敢于拼搏。什么都不是問題!

也許三年，也許二年。但是絕對有這一天！希望這一天快點(diǎn)到來!加油！��！

首先那個不叫28納米光刻機(jī)。Asml也沒有28納米光刻機(jī)。它光源的波長是193納米。更短的波長會被介質(zhì)吸收。所以沒有波長193納米以下的duv光刻機(jī)。

用193納米的光刻機(jī)，可以最高做到7納米的工藝。

所以半導(dǎo)體也不光是光刻機(jī)的問題。晶圓代工廠的工藝水平也很重要。

這個就是Duv光刻機(jī)。至于有些說它不行的可以歇歇了。上海微電子十年來累計投資只有6億人民幣，還不夠買一臺Euv光刻機(jī)。正因為投資力度太小，今天中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)才如此被動。不要有意無意的做了西方國家嚇阻中國的幫兇。

凡是“中國永遠(yuǎn)做不出來”的東西，都是中國應(yīng)該全力投入去做的東西。人家嚇阻你，正說明它重要，而且可能并沒有想象的那么難，正是因為中國可能會做出來，所以他們才嚇阻。

最后，對產(chǎn)業(yè)進(jìn)行指導(dǎo)，高瞻遠(yuǎn)矚的話就別說了，連光刻機(jī)的性質(zhì)都沒搞清楚，讓外行人誤以為你是專家，多不好。

對我不懂的東西，我傾向于認(rèn)為別人能做出來。研發(fā)從來都是有困難的，不可能一帆風(fēng)順，但只要投入夠大，決心夠大，一定能搞出來。

中國進(jìn)口最多的類別，就是半導(dǎo)體。幾千億美元的級別。到第十之后，就是幾十億美元的級別了。跟國家經(jīng)濟(jì)規(guī)模的量級相比，可以忽略不記。

也就是說，半導(dǎo)體之爭，就是經(jīng)濟(jì)領(lǐng)域的決戰(zhàn)。過了這關(guān)，美國可以投降了。沒有什么再能卡中國脖子，只能看著中國慢慢騎到他們脖子上拉shi撒niao。

這么重要的產(chǎn)業(yè)，國家不可能現(xiàn)在還看不清楚。所以，外行人怎么認(rèn)為，根本無關(guān)緊要。倒是我們，看清未來的方向，能讓自己不去做錯的選擇。

我們不要只看到高端芯片的制造和市場！

用到芯片的電器太多太多了，大到冰箱彩電，小到遙控器兒童玩具等等等等！不要小看了28nm的芯片和制造研發(fā)，這是走向更先進(jìn)制造工藝的必經(jīng)之路！也是占有龐大市場必須要有的技術(shù)和產(chǎn)能！

據(jù)報道，上海微電子裝備有限公司將于2021年實(shí)現(xiàn)28nm光刻機(jī)的量產(chǎn)，目前國產(chǎn)最好的光刻機(jī)是90nm。28nm光刻機(jī)的成功量產(chǎn)，對于國產(chǎn)光刻機(jī)來說，具有里程碑的意義。因為90nm光刻機(jī)對于目前的芯片來說真得不夠用，而28nm光刻機(jī)對于目前的部分芯片來說，還是夠用的。像現(xiàn)在的手機(jī)處理器已經(jīng)發(fā)展到5nm水平，今年即將發(fā)布的麒麟1020處理器與蘋果A14處理器采用的就是5nm工藝制程。即使目前一些中端5G處理器也在使用7nm工藝制程，28nm芯片只有一些百元機(jī)還在使用。

國產(chǎn)光刻機(jī)與世界頂級光刻機(jī)有多大的差距？

目前最好先進(jìn)的國產(chǎn)光刻機(jī)就是由上海微電子裝備有限公司生產(chǎn)的90nm光刻機(jī)，上海微電子裝備有限公司需要到2021年才可以實(shí)現(xiàn)28nm光刻機(jī)的量產(chǎn)。而世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)已經(jīng)發(fā)展到5nm技術(shù)，28nm光刻機(jī)應(yīng)該是10年前的水平了。

即使上海微電子裝備有限公司生產(chǎn)出28nm的光刻機(jī)，我們依然有世界頂級的光刻機(jī)有著很大差距，更不能從根本上解決我國光刻機(jī)現(xiàn)有的問題。當(dāng)然我們也不能因為這，停止研發(fā)光刻機(jī)，光刻機(jī)的研發(fā)并不是一蹴而就的，需要長期的技術(shù)積累，連28nm的光刻機(jī)都研究不出來，何談5nm光刻機(jī)。所以國產(chǎn)光刻機(jī)也需要一步步的來來。

究竟是什么原因，導(dǎo)致國產(chǎn)光刻機(jī)的落后

其實(shí)國產(chǎn)光刻機(jī)研發(fā)的時間還是比較早的，我國做出第一臺光刻機(jī)的時候，荷蘭的ASML公司都沒有成立。然而到了80年代，我國很多企業(yè)有了“買辦”的思想，很多企業(yè)認(rèn)為自己租研發(fā)會消耗掉大量的人力與物力資源，同時企業(yè)也需要承擔(dān)很大的風(fēng)險。不如直接組購買國外的光刻機(jī)，這樣還能省下不少的資金，企業(yè)不用承擔(dān)風(fēng)險。所以自從那時起，我國的光刻機(jī)技術(shù)與國外的光刻機(jī)差距越來越大了。

在1996年，以西方國家為主的33國家在奧地利維也納簽署了《瓦森納協(xié)定》。這33個國家之間可以實(shí)現(xiàn)技術(shù)的共享，但是如果他們其中的一個國家要向非成員國出售關(guān)鍵技術(shù)或者關(guān)鍵零部件時，需要經(jīng)過其他成員國的同意才可以進(jìn)行出售。這也是制約我國光刻機(jī)發(fā)展的根本原因，很多光刻機(jī)的零部件以及技術(shù)我們都買不到，所以我們只能靠國內(nèi)的公司。

在2018年時中芯國際就向ASML訂購了一臺EUV光刻機(jī)，已經(jīng)到2020年了，中芯國際還沒有收到這臺光刻機(jī)，其中就是因為美國的阻撓。

筆者觀點(diǎn)：

既然我們買不到關(guān)鍵的零件，只能我們自己去做。國產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展并不是靠一家公司就可以完成的，需要我國整個半導(dǎo)體行業(yè)的共同努力。